[实用新型]一种晶体生长用加热系统有效

专利信息
申请号: 202021076544.3 申请日: 2020-06-10
公开(公告)号: CN213172675U 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 马争荣;王建玲 申请(专利权)人: 高密普特电子设备有限公司
主分类号: C30B15/14 分类号: C30B15/14;C30B15/20
代理公司: 济南诚智商标专利事务所有限公司 37105 代理人: 殷盛江
地址: 261500 山东省潍坊*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶体生长 加热 系统
【权利要求书】:

1.一种晶体生长用加热系统,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的顶部固定连接有限位支杆(2),所述限位支杆(2)远离底板(1)的一端固定连接有顶板(3),所述限位支杆(2)的外部活动连接有滑块(4),所述滑块(4)的内侧和固定套(5)的外侧固定连接,所述固定套(5)的内部固定连接有导管(6),所述导管(6)远离固定套(5)一端的外部固定安装有控制阀(7),所述控制阀(7)的外部固定安装有控制器(8),所述顶板(3)的顶部固定连接有支撑架(9),所述支撑架(9)的内部固定连接有传动轴(10),所述顶板(3)的顶部固定连接有位于支撑架(9)左侧的电机支架(11),所述电机支架(11)的顶部固定安装有驱动电机(12),所述驱动电机(12)输出轴和传动轴(10)的外部均固定连接有传动轮(13),所述顶板(3)的内部活动连接有活动限位杆(14),所述活动限位杆(14)的顶端固定连接有层板(15),所述层板(15)的顶部固定安装有温度检测器(16),所述温度检测器(16)的底部固定安装有位于活动限位杆(14)内部的检测导管(17)。

2.根据权利要求1所述的一种晶体生长用加热系统,其特征在于:所述底板(1)和顶板(3)的面积相等,所述顶板(3)顶端的中部开设有活动开口。

3.根据权利要求1所述的一种晶体生长用加热系统,其特征在于:所述限位支杆(2)的数量为两个,且两个限位支杆(2)左右对称分布在底板(1)和顶板(3)相对的一侧。

4.根据权利要求1所述的一种晶体生长用加热系统,其特征在于:所述固定套(5)的顶部开设有开口,固定套(5)的内部开设有圆形定位孔,固定套(5)和滑块(4)为一个整体。

5.根据权利要求1所述的一种晶体生长用加热系统,其特征在于:所述支撑架(9)的数量为四个,所述传动轮(13)的外侧和活动限位杆(14)相接触,所述活动限位杆(14)远离层板(15)的一端和固定套(5)的顶部固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种晶体生长用加热系统,其特征在于:所述检测导管(17)远离温度检测器(16)的一端贯穿固定套(5)并延伸至导管(6)的内部,所述控制器(8)的外部固定安装有显示屏和控制键。

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