[实用新型]镀膜装置以及镀膜设备

权利要求书

1.镀膜装置，可用于在热丝化学气相沉积法中对基板进行镀膜，设有用于对基板进行镀膜的镀膜腔，其特征在于，所述镀膜腔内间隔地设置有三个以上具有第一热丝的镀膜部，各相邻的两个所述镀膜部之间，分别容许单块所述基板流过，且相邻的两个镀膜部设置为分别对流过它们之间的所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，每一个所述镀膜部分别包括多组所述第一热丝。

3.根据权利要求1或2所述的镀膜装置，其特征在于，各所述镀膜部的所述第一热丝，设置为可同时对流过其两侧的所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

4.根据权利要求1或2所述的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜部沿水平方向或者竖直方向间隔设置。

5.根据权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，多组所述第一热丝分别沿所述基板的传输方向分布。

6.镀膜设备，用于对基板进行镀膜，其特征在于，包括：至少一个权利要求1至5中任一项所述的镀膜装置。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜装置包括多个，多个所述镀膜装置沿所述基板的传输方向，依次连接。

8.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第一镀膜组件，所述第一镀膜组件和所述镀膜装置连接，所述第一镀膜组件具有用于对所述基板进行镀膜的第一镀膜空间，所述第一镀膜空间内设置有一个第一镀膜源，所述第一镀膜源设置为对流过其两侧的两块所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第二镀膜组件，所述第二镀膜组件和所述镀膜装置连接，所述第二镀膜组件具有用于对所述基板进行镀膜的第二镀膜空间，所述第二镀膜空间内间隔设置有多个第二镀膜源，相邻的两个所述第二镀膜源之间，设置为容许并排的两块所述基板流过，两个所述第二镀膜源设置为分别对与其相邻的所述基板的一面进行镀膜。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的镀膜设备，其特征在于，还具有多个隔离部，所述隔离部使所述镀膜腔被隔离。