[实用新型]一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置

权利要求书

1.一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：包括主供流保护组件（1）、环壁弥散保护组件（2）和气体保护罩（3），所述的主供流保护组件（1）由进气管Ⅰ（101）和连接在进气管Ⅰ（101）末端的环形释气管（102）构成，该环形释气管（102）绕用于输送金属液的主供流管（4）设置，且环形释气管（102）上均匀开设有多个出气孔（103），所述的主供流保护组件（1）将进气管Ⅰ（101）供给的保护气体经由环形释气管（102）上的出气孔（103）释出，用于对主供流管（4）末端的金属液出口进行气氛保护；

所述的环壁弥散保护组件（2）包括进气管Ⅱ（201）和连接在进气管Ⅱ（201）末端的环壁释气管（202），该环壁释气管（202）绕熔体结晶器（5）上端部的内壁面设置，在环壁释气管（202）上均匀开设有多个放气孔（203），所述的环壁弥散保护组件（2）将进气管Ⅱ（201）供给的保护气体经由环壁释气管（202）上的放气孔（203）释出，用于对熔体结晶器（5）的顶部进行气氛保护；所述的气体保护罩（3）由左右对称设置的两个罩体构成，每个罩体均包括耐热玻璃顶板（301）和金属围板（302），金属围板（302）设置在耐热玻璃顶板（301）的下方，在金属围板（302）的外侧还设置有方便对两个罩体进行配合拼接的操作手柄（303），两个罩体左右对接拼合后，能够组构成一个罩盖于熔体结晶器（5）上表面的保护气体防溢出组件，且在气体保护罩（3）的顶部中心处，还开设有用于供主供流管（4）穿过的通孔。

2.根据权利要求1所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述的出气孔（103）设置在环形释气管（102）的底部，且多个出气孔（103）沿环形释气管（102）的周向均匀设置。

3.根据权利要求1或2所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述进气管Ⅰ（101）和环形释气管（102）的内径为6-10mm，出气孔（103）的直径为1-2mm，且环形释气管（102）上每相邻两个出气孔（103）之间的间隔为8-15mm。

4.根据权利要求1所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述的放气孔（203）设置在环壁释气管（202）的底部，且多个放气孔（203）沿环壁释气管（202）的周向均匀设置。

5.根据权利要求1或4所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述进气管Ⅱ（201）和环壁释气管（202）的内径为6-10mm，放气孔（203）的直径为1-2mm，且环壁释气管（202）上每相邻两个放气孔（203）之间的间隔为8-15mm。

6.根据权利要求1所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述环壁释气管（202）的下表面与熔体结晶器（5）中金属液面之间的间距为20-25mm。

7.根据权利要求1所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述的环形释气管（102）和环壁释气管（202）均水平设置。

8.根据权利要求1所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述耐热玻璃顶板（301）的厚度为8-15mm，金属围板（302）的高度为80-150mm，厚度为1-2mm。

9.根据权利要求1所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述气体保护罩（3）顶部通孔的直径为60-120mm。

10.根据权利要求1所述的一种镁合金半连续铸造用熔体气氛保护装置，其特征在于：所述熔体结晶器（5）的顶部外圆周上还设置有用于架设气体保护罩（3）的支撑耳板。