[实用新型]一种真空镀膜用置物架

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜用置物架，包括底盘，底盘上端设置有支架基体，支架基体上端设置有载物盘，载物盘下端设置有下盘，载物盘上端设置有上盘，支架基体顶端设置有水平载物盘，底盘上表面设置有第一电机，第一电机轴端设置有减速器，减速器远离第一电机的一端设置有支撑柱，支撑柱靠近减速器的一端表面设置有联接环，联接环外壁设置有固定杆，固定杆远离联接环的一端设置有联接柱，底盘左侧设置有台阶，联接柱内部设置有第二电机，第二电机远离固定杆的一端设置有转轴，上盘内部设置有安装腔。本实用新型的一种真空镀膜用置物架，可通过载物盘公转和自转使工件镀膜厚度均匀，且载物盘倾斜设置使每次镀膜工件数量增多，工作效率加快。

技术领域

本实用新型涉及镀膜结构技术领域，特别涉及一种真空镀膜用置物架。

背景技术

为改善产品性能，大多工业产品表面都镀有功能薄膜，以优化产品表面光学、热学性能，传统的真空镀膜技术一般为物理气相沉积技术和化学气相沉积技术，物理气相沉积是利用蒸发或者溅射等物理形式，把固体的材料转化为院子、分子或者粒子态的气相物质沉积到基体或零件的表面，已形成膜层的制备方法，物理气相沉积技术具有薄膜均匀、靶材广泛、溅射范围宽的优点。

现有的真空镀膜用置物架，在对工件进行镀膜时，通过将待镀的工件置于置物架上进行镀膜，传统镀膜架的镀膜形式单一，镀膜的中心厚边缘薄，造成膜层的平整度较差、镀膜不均匀，镀膜效果差，且传统的置物架大多水平放置工件，但是镀膜空间有限，因此每次镀膜生产的工件数量存在限制，生产效率低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种真空镀膜用置物架，可以有效改善背景技术中镀膜不均匀、镀膜效率低的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种真空镀膜用置物架，包括底盘，所述底盘上端设置有支架基体，所述支架基体上端设置有载物盘，所述载物盘下端设置有下盘，所述载物盘上端设置有上盘，所述支架基体顶端设置有水平载物盘，所述底盘上表面设置有第一电机，所述第一电机轴端设置有减速器，所述减速器远离第一电机的一端设置有支撑柱，所述支撑柱靠近减速器的一端表面设置有联接环，所述联接环外壁设置有固定杆，所述固定杆远离联接环的一端设置有联接柱，所述底盘左侧设置有台阶，所述联接柱内部设置有第二电机，所述第二电机远离固定杆的一端设置有转轴，所述上盘内部设置有安装腔，所述安装腔内设置有料盘。

优选的，所述水平载物盘外径尺寸与载物盘外径尺寸相同，所述水平载物盘与支撑柱固定连接，所述水平载物盘与支架基体固定连接，所述载物盘形状为圆形，所述载物盘数量为六组，呈圆锥形等高排列，所述水平载物盘与载物盘构成圆锥台形。

优选的，所述下盘两侧与支架基体固定连接，所述下盘与联接柱固定连接，所述转轴贯穿下盘与上盘连接，所述上盘外径尺寸与下盘外径尺寸相同，所述上盘与转轴固定连接，所述上盘通过转轴与第二电机转动连接。

优选的，所述上盘内部设置有安装腔，所述料盘宽度尺寸与安装腔宽度尺寸相匹配，所述料盘与安装腔套接，所述上盘与料盘通过安装腔套接，所述安装腔与料盘数量均为若干组，呈圆周等距排布。

优选的，所述固定杆呈弯曲形，所述固定杆一端与联接环固定连接，所述固定杆另一端与联接柱固定连接，所述载物盘通过固定杆与支撑柱转动连接。

优选的，所述联接环内径尺寸与支撑柱外径尺寸相同，所述联接环与支撑柱固定连接，所述支撑柱与第一电机通过减速器固定连接，所述第一电机固定于底盘上表面。

优选的，所述底盘外径尺寸与水平载物盘外径尺寸相匹配，所述台阶上端与水平载物盘固定连接，所述台阶下端与底盘固定连接，所述台阶呈一定角度倾斜。