[实用新型]一种用于进气管居中性校准工装

说明书

本实用新型涉及一种用于进气管居中性校准工装，包括相配合使用的校准螺杆和校准环；校准环为圆柱体，校准环的中心有一通孔，校准环的边缘均布有四个定位孔，四个校准螺杆分别与四个定位孔连接，四个校准螺杆的尾部位于通孔内。本实用新型提供的用于进气管居中性校准工装，校准环将进气内管控制在居中位置，校准螺杆拧入后将进气内管固定，使内进气管在外进气管居中位置，使反应气体的气流分布均匀，充分利用炉内反应气体，改善大坩埚的表面厚度均匀性，提高反应气体的利用率。

技术领域

本实用新型涉及一种用于进气管居中性校准工装，尤其涉及一种用于化学气相沉积过程中进气管居中校准的工装，属于化学气相沉积技术领域。

背景技术

化学气相沉积(以下简称为CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。目前CVD技术领域中定制化产品种类多，规格也是多种多样，其中进气管居中性校准属于本领域中的一个难点，这是因为进气管套管不在居中位置，会导致气流的分布均匀性差，反应气体比例不均匀，这样会导致CVD产品出现非常大的厚度差，严重影响产品的良品率。

经检索未发现有相关技术报道，因此，设计一种专用于进气管居中性校准工装，使其反应气体的气流分布均匀的装置是非常有必要的。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种用进气管居中性校准工装，利用该进气管校准工装可以最大限度提高反应气体的气流分布均匀性，改善产品的厚度均匀性。

本实用新型的技术方案如下：

一种用于进气管居中性校准工装，包括相配合使用的校准螺杆和校准环；校准环为圆柱体，校准环的中心有一通孔，校准环的边缘均布有四个定位孔，四个校准螺杆分别与四个定位孔连接，四个校准螺杆的尾部位于通孔内。

优选的，所述校准螺杆的主体直径为20-100mm，高度为100-800mm。

优选的，所述校准螺杆的尾部为圆弧状凹槽，贴合进气内管弧面。此设计的好处在于，螺杆尾部为圆弧状凹槽，贴合进气内管弧面，加大与进气内管的接触面积，并利用凹槽更好的固定圆柱形进气内管。

优选的，所述校准环直径为450-1000mm，高度为200-500mm，定位孔向圆柱内凹陷的深度为30-300mm。

优选的，所述定位孔设置有内螺纹，校准螺杆与定位孔螺纹连接。

使用时，校准环在进气管安装时放置在进气管外管内，进气管内管穿入校准环的通孔，通孔内径大于进气管内管直径，然后紧固校准螺杆，通过调节校准螺杆来调整进气管的居中性，校准螺杆保留在进气管内固定并保证进气内管居中，校准螺杆为圆柱体，进气内管居中后，气体均匀散布，反应时气体流动均匀可以充分反应。通过校准环及校准螺杆将进气内管居中后，对反应气体流动调整，保证反应气体均匀分布。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型提供的用于进气管居中性校准工装，校准环将内进气管控制在居中位置，校准螺杆拧入后将进气内管固定，使内进气管在外进气管居中位置，使反应气体的气流分布均匀，充分利用炉内反应气体，改善大坩埚的表面厚度均匀性，提高反应气体的利用率。

附图说明

图1为校准螺杆的结构示意图；

图2a为校准环的结构示意图；

图2b为校准环的立体示意图；

图3a为校准工装作业时的仰视图；

图3b为校准工装作业时的俯视图；

其中：1-校准螺杆，101-圆弧状凹槽，2-校准环，201-定位孔，202-通孔，3-进气管。