[实用新型]喷淋式进气CVD的垂直喷淋装置有效
| 申请号： | 202021104502.6 | 申请日： | 2020-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN212713746U | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 于葛亮;张锦;刘伟铭;康斯坦丁·诺沃舍洛夫;孙正乾;杨金东 | 申请（专利权）人： | 无锡盈芯半导体科技有限公司;北京大学 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 曹祖良;涂三民 |
| 地址： | 214187 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷淋 式进气 cvd 垂直 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种喷淋式进气CVD的垂直喷淋装置，其特征是：它包括喷淋管（1）与喷淋头（2），喷淋管（1）的下端部固定有喷淋头（2），喷淋管（1）的中段为具有螺旋管结构的预热区（11），在喷淋头（2）的底板上开设有喷淋孔（21）。
2.根据权利要求1所述的喷淋式进气CVD的垂直喷淋装置，其特征是：所述预热区（11）的内径小于喷淋管（1）的上段内径，预热区（11）的内径小于喷淋管（1）的下段内径，喷淋管（1）的上段与下段的内径相等。
3.根据权利要求2所述的喷淋式进气CVD的垂直喷淋装置，其特征是：在喷淋管（1）的上段的外圆上固定有安装盘（3）。
4.根据权利要求1所述的喷淋式进气CVD的垂直喷淋装置，其特征是：在从上往下的方向上，所述喷淋头（2）的内径呈逐渐增大设置。
5.根据权利要求1所述的喷淋式进气CVD的垂直喷淋装置，其特征是：所述喷淋孔（21）的横截面积之和小于喷淋管（1）的入口端面积。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
