[实用新型]一种磁控溅射装置

权利要求书

1.一种磁控溅射装置，其特征在于：包括真空室(1)，所述真空室(1)内设置有可旋转的旋转平台(16)，所述旋转平台(16)上安装有圆柱形罩壳(17)，所述罩壳(17)上间隔设置有基材(18)，所述罩壳(17)外侧的真空室(1)内设置有靶材(6)，所述真空室(1)内部后侧设置有水循环装置(11)，所述水循环装置(11)的一端从真空室(1)的一侧穿过，且水循环装置(11)的这一端设置有加热及控制装置(12)，所述水循环装置(11)的另一端从真空室(1)的另一侧穿过，所述罩壳(17)内设置有第一温度传感器(8)。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述真空室(1)的底部设置有石英晶体震荡传感器(9)，真空室(1)的顶部设置有真空传感器(2)、气压传感器(3)、第三温度传感器(4)、流量传感器(5)、气压调整及控制装置(15)。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述真空室(1)内还设置有降温风扇，所述降温风扇的启停通过风扇开关(14)控制。

4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述靶材(6)与真空室(1)的侧壁之间设置有间隙，所述间隙中安装有第二温度传感器(7)。

5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述旋转平台(16)的下方安装有电机(10)，所述旋转平台(16)可在电机(10)的驱动下旋转。

6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述水循环装置(11)包括若干个收尾依次连接的管道，使水循环装置(11)从真空室(1)的一侧到另一侧呈迂回前进的结构延伸。

7.根据权利要求6所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述管道中的冷媒为水，水流从一侧进入真空室(1)，从另一侧流出真空室(1)。