[实用新型]盖子、固定装置以及电子束蒸镀装置

权利要求书

1.一种盖子，用于在蒸镀过程中压抵基片，其特征在于，所述盖子具有空腔，围绕所述空腔的一圈侧壁用于与基片接触以压抵基片，且所述侧壁用于与基片接触的底部形成有倒角。

2.根据权利要求1所述的盖子，其特征在于，所述侧壁的底部形成有内倒角和/或外倒角。

3.根据权利要求1所述的盖子，其特征在于，所述倒角为倒斜角或倒圆角。

4.根据权利要求3所述的盖子，其特征在于，所述倒角为倒斜角，所述倒斜角具有平行于基片方向的直角边，所述直角边的长度为0.1mm～0.5mm，所述倒斜角的角度为30°～60°；或者，所述倒角为倒圆角，所述倒圆角的半径小于或等于所述侧壁厚度的1/2。

5.根据权利要求4所述的盖子，其特征在于，所述直角边的长度为0.2mm，所述倒斜角的角度为45°。

6.根据权利要求1所述的盖子，其特征在于，所述基片为8寸晶圆，所述盖子的形状和尺寸与所述8寸晶圆相同，且所述空腔的顶部厚度小于5.0mm。

7.根据权利要求6所述的盖子，其特征在于，所述空腔的顶部厚度大于或等于3.0mm。

8.根据权利要求6或7所述的盖子，其特征在于，所述空腔的顶部厚度均匀或不均匀。

9.一种固定装置，用于在蒸镀过程中固定基片，其特征在于，包括：可转动的基座；支撑环，设置在所述基座上，所述支撑环具有环状平台，用于放置基片；以及如权利要求1-8中任一项所述的盖子，用于设置在所述支撑环的上方并压抵所述基片。

10.一种电子束蒸镀装置，其特征在于，包括：真空腔；以及如权利要求9所述的固定装置，设置在所述真空腔内。