[实用新型]一种高压水刀物理除膜装置

说明书

本实用新型公开了一种高压水刀物理除膜装置，包括外壳、高压水泵、三轴滑轨副、高压喷洗组件、工件夹持支架；外壳内设有格栅安装网格，外壳内底部外接有排水管；三轴滑轨副设有两组，并分别设置于外壳内上下两层；高压水泵设置于外壳外侧的腔室内；高压喷洗组件设置于三轴滑轨副上，并与高压水泵相连接，两组三轴滑轨副的联合移动，同时冲洗工件正反面；工件夹持支架设置于格栅安装网格之间，用于夹持工件；本实用新型设置了上下两组的三轴滑轨副，在清洗时能够对工件的正反面进行平行冲洗，平衡了工件受到的压力，一次清洗时间能同时洗正反两面，提升了工作效率，避免工件局部受压不平衡造成变形，省去了后期变形修复的工序，节省了人工成本。

技术领域

本实用新型设涉及物理除膜装置技术领域，特别涉及一种高压水刀物理除膜装置。

背景技术

在半导体制程中，必须定期或不定期地对半导体制程设备的零件进行清洗及再生，以维持半导体制程设备的效能，并可延长设备的使用寿命。清洗的工艺包括有高压水刀冲洗，采用高压水刀对半导体制程设备中的遮覆板上的金属镀层进行冲洗，以防金属镀膜在后续的生产过程中破裂或剥落，产生的微尘粒子散布至设备内影响良率。而现有的用于遮覆板的高压冲洗物理除膜装置，其包括有一组喷头组件，该喷头组件使用三轴滑轨机械手或SCARA机械手进行移动，在清洗时先清洗遮覆板的一个面，随后由人工停机翻转板块并继续清洗另一个面，这将导致高压清洗的过程中，遮覆板由于正反面压力不均变形，在后续的工艺中需要对遮覆板进行反变形修复，消耗时间，影响工作效率。因此，需要对现有的用于遮覆板的高压冲洗物理除膜装置进行改进，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于提供一种高压水刀物理除膜装置，以解决上述问题。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

一种高压水刀物理除膜装置，包括外壳、高压水泵、三轴滑轨副、高压喷洗组件、工件夹持支架；所述外壳从上到下依次设有三层，其中包括上层和下层的滑轨层，以及中层的冲洗层，所述冲洗层内设有格栅安装网格；下层的所述滑轨层底部外接有排水管；所述三轴滑轨副设有两组，并分别设置于上下层不同的所述滑轨层内；所述高压水泵设置于所述外壳外侧的腔室内；所述高压喷洗组件设置于所述三轴滑轨副上，并与所述高压水泵相连接，通过两组所述三轴滑轨副的联合移动，同时冲洗工件的正反面；所述工件夹持支架设置于所述格栅安装网格之间，用于夹持工件。

进一步的，所述冲洗层为可开启腔门，其上设有可视化透明窗口。

进一步的，所述三轴滑轨副包括X轴滑轨副、Y轴滑轨副、Z轴滑轨副。

进一步的，所述X轴滑轨副包括X轴滑轨、X轴滑块、X轴电机；所述X轴滑轨设置于所述滑轨层的内侧；所述X轴滑块与所述X轴滑轨滑动连接；所述X轴电机设置于所述外壳外侧，并通过皮带与所述X轴滑块驱动连接。

进一步的，所述Y轴滑轨副包括Y轴滑轨、Y轴滑块、Y轴电机；所述Y轴滑轨设置于所述X轴滑块上；所述Y轴滑块与所述Y轴滑轨滑动连接；所述Y轴电机设置于所述外壳外侧，并通过皮带与所述Y轴滑块驱动连接。

进一步的，所述Z轴滑轨副包括Z轴背板、Z轴气缸、Z轴滑动块；所述Z轴背板设置于所述Y轴滑块上；所述Z轴气缸设置于所述Z轴背板前端；所述Z轴滑动块与所述Z轴气缸的输出端滑动连接；所述高压喷洗组件设置于所述Z轴滑动块上。

进一步的，所述高压喷洗组件由主水管、高压喷头组成；所述主水管设置于所述三轴滑轨副上；所述高压喷头阵列设置于所述主水管上。

进一步的，所述工件夹持支架设有若干对，其上设有插入部、锁紧部；所述插入部与所述格栅安装网格对应契合；所述锁紧部为阵列排列的通孔。