[实用新型]一种硅棒布置结构

说明书

本实用新型公开了一种硅棒布置结构，对于60对棒，按照同心圆布置，每相的相电流均位于同一圈硅棒的轨迹上。本实用新型将60对棒按照同心圆的布置方式来布置。特别地，本实用新型中的每相的相电流均位于同一圈硅棒的轨迹上。换言之，本实用新型中的60对棒中的相电流不跨圈。如此，能够精确地控制每圈硅棒的温场，进而提高硅棒质量。

技术领域

本实用新型涉及硅棒还原炉技术领域，更具体地说，涉及一种硅棒布置结构。

背景技术

目前国内外普遍应用的是40对棒炉，即硅棒还原炉内排布有40对硅棒。40对棒炉属于中型硅棒还原炉。为了提高生产效率，本领域技术人员设计了72对棒炉。不论是40对棒还是72对棒，都存在相电流跨圈的问题。而在硅棒还原炉中，每一圈硅棒所在的区域的温场如果电流跨圈，那么只能根据温场较高的一圈硅棒的温度来控制电流，以避免温场较高。但是，如果这样就会影响温场较低的一圈硅棒的温场，从而影响该圈硅棒的生长质量。

因此，如何避免相电流跨圈，从而能够精确地控制每圈硅棒的温场，进而提高硅棒的质量，是本领域技术人员亟待解决的关键性问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种硅棒布置结构，在该布置结构中，能够避免相电流跨圈，从而能够精确地控制每圈硅棒的温场，进而提高硅棒质量。为实现上述目的，提供了如下方案：

一种硅棒布置结构，对于60对棒，按照同心圆布置，每相的相电流均位于同一圈硅棒的轨迹上。

优选地，所述60对硅棒的排布方式为：从内圈到外圈依次为4对硅棒、8对硅棒、12对硅棒、16对硅棒、20对硅棒。

优选地，在每一圈的硅棒中，相邻硅棒间的棒间距为235mm。

优选地，相邻两圈硅棒之间的圈间距为295-302mm。

优选地，从里到外，第一圈的4对硅棒为第一组硅棒；第二圈的8对硅棒为第二组硅棒；第三圈的12对硅棒中，4对硅棒为第三组硅棒，剩余的8对硅棒为第四组硅棒；第四圈的16对硅棒中，其中8对硅棒为第五组硅棒，剩余的8对硅棒为第六组硅棒；第五圈的20对硅棒中，其中的4对硅棒为第七组硅棒，剩余的16对硅棒中，其中8对硅棒为第八组硅棒，剩余的8对硅棒为第九组硅棒；在第一组硅棒到第九组硅棒中，每一组硅棒对应一个相电流。

优选地，相邻两圈硅棒间设置有一圈喷嘴。

优选地，从里到外，第一圈喷嘴为4个，第二圈喷嘴为8个，第三圈喷嘴为16个，第四圈喷嘴为24个。

优选地，围绕最外圈的硅棒设置有多个尾气孔。

优选地，围绕最外圈的硅棒均布有8个尾气孔。

优选地，最内圈的硅棒的圆心处设置有一个尾气孔。

从上述技术方案可以看出，本实用新型将60对棒按照同心圆的布置方式来布置。特别地，本实用新型中的每相的相电流均位于同一圈硅棒的轨迹上。换言之，本实用新型中的60对棒中的相电流不跨圈。如此，能够精确地控制每圈硅棒的温场，进而提高硅棒质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的方案，下面将对实施例中描述所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一具体实施例提供的9相电流的分布图；

图2为本实用新型一具体实施例提供的60对棒还原炉的平面图。

其中，1为硅棒、2为喷嘴、3为尾气孔、4为还原炉炉体。

具体实施方式