[实用新型]一种防止流体经冲击后回射四散的机构

权利要求书

1.一种防止流体经冲击后回射四散的机构，适用于装载有易飞溅流体的容器上，其特征在于，包括本体和拦截件，所述本体设置有流体通道结构，所述流体通道结构与所述容器的流体高速输出装置管道连接且所述流体通道结构的输出端延伸至所述容器内，所述拦截件设置在所述容器内且位于所述流体通道结构的输出端和装载于所述容器内的易飞溅流体的上表面之间以用于阻挡高速流体冲击在易飞溅流体上。

2.根据权利要求1所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述本体设置在所述容器顶部，所述流体通道结构包括第一流孔和第二流孔，所述第一流孔与所述第二流孔连通，所述第一流孔与所述容器的流体高速输出装置管道连接，所述拦截件成型于所述第一流孔远离所述流体高速输出装置的端部，所述第二流孔的输出朝向所述容器的侧壁。

3.根据权利要求2所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述本体呈直筒状结构设计且呈竖直状态安装，所述第一流孔沿所述本体的长度方向设置在所述本体的中轴线位置上，所述第二流孔的长度方向与所述第一流孔的长度方向交错设计。

4.根据权利要求3所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述第二流孔呈倾斜状态设置且所述第二流孔远离所述第一流孔的端部往背向所述容器的易飞溅流体的方向倾斜。

5.根据权利要求3所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述第二流孔呈倾斜状态设置且所述第二流孔远离所述第一流孔的端部往所述容器的易飞溅流体的方向倾斜。

6.根据权利要求2所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述第二流孔的数量为四组，四组所述第二流孔围绕所述本体的中轴线周向均匀地分布在所述本体的边沿。

7.根据权利要求1～6任意一项所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述本体呈圆筒状结构设置，所述流体通道结构呈“L”型或“J”型结构设置。

8.根据权利要求1所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述拦截件设置在所述容器的侧壁上，所述拦截件设置有正对所述流体通道结构的输出端的阻挡端面。

9.根据权利要求8所述的防止流体经冲击后回射四散的机构，其特征在于：所述阻挡端面呈平面直线型结构或弧型结构设置。