[实用新型]一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构

权利要求书

1.一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，包括收集斗(1)、支撑脚(2)、出料口(3)、控制按钮(4)和电源线(5)，所述收集斗(1)底端四角固定有支撑脚(2)，且收集斗(1)底面中部开设有出料口(3)，所述出料口(3)左侧中部设置有控制按钮(4)，且出料口(3)前端左侧安装有电源线(5)；

其特征在于：还包括开合机构(6)，所述开合机构(6)设置于出料口(3)底部。

2.根据权利要求1所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述开合机构(6)包括滑道(61)、滑轮(62)、第一挡板(63)、第二挡板(64)、合页(65)和驱动元件(66)，所述滑道(61)横向开设于出料口(3)底面前后两端，且滑道(61)与滑轮(62)表面滚动连接，所述第一挡板(63)设置于出料口(3)底部左侧，且第一挡板(63)前后两面左侧与滑轮(62)内侧相连接，所述第二挡板(64)设置于出料口(3)底部右侧，且第二挡板(64)左侧通过合页(65)与第一挡板(63)右侧相连接，所述驱动元件(66)设置于出料口(3)右侧。

3.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述驱动元件(66)由连接板(661)、连接块(662)、支撑板(663)、支撑块(664)、连接轴(665)、固定座(666)、汽缸(667)、连接件(668)和连接条(669)组成，所述连接板(661)左侧与第二挡板(64)右侧前后两端固定连接，且连接板(661)顶面中部焊接有连接块(662)，所述支撑板(663)固定于出料口(3)右侧底部前后两端，且支撑板(663)底面中部固定有支撑块(664)，所述连接轴(665)前后两端贯穿连接块(662)顶部与支撑块(664)内侧中部相连接。

4.根据权利要求3所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述固定座(666)固定于出料口(3)右侧顶端，且固定座(666)底部与汽缸(667)顶部固定连接，所述连接件(668)与汽缸(667)顶端中部相连接，且连接件(668)底端中部通过转轴与连接条(669)底端中部转动连接，所述汽缸(667)和控制按钮(4)均与电源线(5)电连接，所述汽缸(667)与控制按钮(4)电连接。

5.根据权利要求4所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述连接条(669)底端中部开设有通孔，且通孔内壁与连接轴(665)外壁中部固定连接。

6.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述第一挡板(63)和第二挡板(64)尺寸、结构均相同，且第一挡板(63)和第二挡板(64)顶面外侧均贴合有橡胶密封层。

7.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述滑轮(62)呈圆柱状，且滑轮(62)表面呈光滑状态。

8.根据权利要求3所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述汽缸(667)可伸缩的最大距离为3cm，且滑轮(62)可滚动的最大距离为10cm。

9.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述合页(65)安装于第一挡板(63)和第二挡板(64)内侧前后两端，且第一挡板(63)和第二挡板(64)内侧面均贴合有橡胶密封层。

10.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其特征在于：所述滑道(61)宽度为10mm，且滑轮(62)宽度为9mm。