[实用新型]一种激光曝光系统

权利要求书

1.一种曝光系统，其包括光源，其特征在于：其还包括激光选束模块、光束转换模块、光束整形模块、阵列偏转模块和控制系统，所述控制系统控制所述激光选束模块、所述光束转换模块、光束整形模块和阵列偏转模块，所述光源发出的光线通过激光选束模块形成一维线阵光束，所述一维线阵光束通过所述光束转换模块形成二维面阵列光束，所述二维面阵光束通过所述光束整形模块和所述阵列偏转模块聚焦至待曝光基板的相应位置。

2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述激光选束模块包括多个微单元，所述多个微单元均具有反射面，反射面镀有经过计算反射率的膜层，所述反射率根据所述微单元的位置计算。

3.根据权利要求2所述的曝光系统，其特征在于：所述控制系统控制所述多个微单元中的任一个或多个进入或者退出光路。

4.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述激光选束模块包括振镜和F-θ透镜，所述振镜包括第一微型电子机械系统（MEMS），所述第一微型电子机械系统（MEMS）控制激光光束偏转至F-θ透镜的焦点，通过F-θ透镜中转换为平行光。

5.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述光束转换模块包括光束偏转模块、反射偏转单元和折叠反射单元，所述一维线阵光束经所述光束偏转模块形成形成一维线光束，经所述反射偏转单元反射至折叠反射单元，经所述折叠反射单元反射后形成二维面阵列光束。

6.根据权利要求5所述的曝光系统，其特征在于：所述光束偏转模块为声光偏转器。

7.根据权利要求5所述的曝光系统，其特征在于：所述反射偏转单元包括多个反射单元，所述反射单元的将光束反设置对应的阵列折叠反射单元。

8.根据权利要求5所述的曝光系统，其特征在于：所述折叠反射单元包括多个呈阵列排列的折叠反射镜。

9.根据权利要求8所述的曝光系统，其特征在于：所述折叠反射镜的倾斜角度相同或者不同。

10.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述光束整形模块包括阵列整形模块和焦点补偿模块，所述阵列整形模块包括呈阵列排列的整形单元，所述整形单元为透镜组，用于完成高斯光束和平顶光束的转变。

11.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述光束整形模块包括阵列整形模块和焦点补偿模块，所述阵列整形模块包括呈阵列排列的整形单元，所述整形单元为透镜组，用于完成平顶光束和高斯光束的转变。

12.根据权利要求10或11所述的曝光系统，其特征在于：所述阵列整形模块包括阵列排列的整形单元，所述整形单元为六边形结构。

13.根据权利要求10或11所述的曝光系统，其特征在于：所述焦点补偿模块包括阵列排列的焦面补偿单元，所述焦面补偿单元为六边形结构。

14.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述阵列偏转模块包括阵列排列的反射扫描镜，所述反射扫描镜采用第二微型电子机械系统（MEMS）控制偏转角度，每个反射扫描镜对应一个微型电子机械系统（MEMS）。