[实用新型]用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置有效

专利信息
申请号: 202021195669.8 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN213377476U 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 邢栗;陈兴隆;张怀东;童宇波;孙会权 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
主分类号: B05B17/06 分类号: B05B17/06;B05B16/20;B05B13/04;B05B15/55;H01L21/027;H01L21/56
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 于晓波
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 高深 结构 喷涂 喷嘴 装置
【权利要求书】:

1.一种用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置,其特征在于:该喷嘴装置包括液体输送管、雾化装置和除灰化装置,所述液体输送管与所述雾化装置相连接,所述雾化装置与所述除灰化装置相连接;其中:

液体输送管:用于将喷胶用光刻胶或保护隔离层输送至所述雾化装置;

雾化装置:用于将所述液体输送管输送的喷胶用光刻胶或保护隔离层雾化成液滴,并将液滴直接作用于晶圆表面;所述雾化装置包括雾化片;

除灰化装置:用于将灰化后的小液滴吸附出去,或者溶解喷洒时产生的微小液滴,以达到理想净化效果。

2.根据权利要求1所述的用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置,其特征在于:该喷嘴装置还包括外壳和密封盖,密封盖设于外壳顶部,外壳与密封盖形成一个密闭空间,外壳高度范围0.5-30mm;所述雾化装置设于该密闭空间内。

3.根据权利要求2所述的用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置,其特征在于:所述液体输送管伸入所述密封盖后连接临时储液槽,临时储液槽位于所述雾化片上方;所述雾化片上设有多个通孔,通孔的排布方式为环形排布、圆形排布、蜂窝排布或线性排布;雾化片上通孔大小范围为1-20μm,根据不同工艺需求设计通孔的排布方式、通孔数量和通孔大小。

4.根据权利要求3所述的用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置,其特征在于:所述雾化片上具有震荡片。

5.根据权利要求1所述的用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置,其特征在于:所述除灰化装置通过管路连接于该喷嘴装置的外壳侧壁上,所述除灰化装置为真空发生器除灰化装置或丙酮buffer除灰化装置。

6.根据权利要求5所述的用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置,其特征在于:所述真空发生器除灰化装置包括真空发生器,真空发生器使用CDA气体。

7.根据权利要求5所述的用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置,其特征在于:所述丙酮buffer除灰化装置包括顶部开两个孔的容器,容器内盛装丙酮,容器顶部一个孔连接氮气管,另一个孔内插入玻璃管且玻璃管伸入丙酮中,玻璃管上端通过管路连接到所述喷嘴装置的外壳侧壁上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳芯源微电子设备股份有限公司,未经沈阳芯源微电子设备股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021195669.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top