[实用新型]一种面板镀膜机用自动出料装置有效
申请号: | 202021197222.4 | 申请日: | 2020-06-24 |
公开(公告)号: | CN212688168U | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 曹廷位 | 申请(专利权)人: | 苏州普提勒新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56 |
代理公司: | 苏州六一专利代理事务所(普通合伙) 32314 | 代理人: | 梁美珠 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 面板 镀膜 自动 装置 | ||
本实用新型公开了一种面板镀膜机用自动出料装置,包括镀膜机主体,镀膜机主体顶端开设有镀膜腔,镀膜腔的两侧腔壁的穿插连接有滑杆,滑杆的顶端开设有齿槽,滑杆表面滑动连接有连接块,连接块内部开设有安装槽,安装槽的一侧槽壁固定安装有第二伺服电机,第二伺服电机的输出轴固定安装有齿轮,齿轮与齿槽啮合连接,连接块的底端固定安装有多个喷头,连接块的顶端固定安装有高压抽料泵。本实用新型通过安装的高压抽料泵便于将镀膜机加热靶材的蒸汽抽入至镀膜腔的内部,并通过喷头喷出,通过安装的第二伺服电机带动齿轮转动,通过齿轮转动带动连接块在滑杆的表面往复移动,保证靶材均匀的喷涂在面板的表面。
技术领域
本实用新型涉及镀膜机技术领域,具体为一种面板镀膜机用自动出料装置。
背景技术
镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
在实现本实用新型的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决:
(1)现有的镀膜机在出料的过程中一般将加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,直接通过气孔排出,容易造成面板表面的镀膜不均匀现象;
(2)现有的镀膜机在出料镀膜的过程中,没有对镀膜面板进行固定,容易造成镀膜发生偏移,影响面板的镀膜效果;
(3)现有的镀膜机在出料镀膜的过程中,镀膜空间的真空效果不佳,容易,影响面板的镀膜效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种面板镀膜机用自动出料装置,以解决上述背景技术中提出现有的镀膜机在出料的过程中一般将加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,直接通过气孔排出,容易造成面板表面的镀膜不均匀现象的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种面板镀膜机用自动出料装置,包括镀膜机主体,所述镀膜机主体顶端开设有镀膜腔,所述镀膜腔的两侧腔壁的穿插连接有滑杆,所述滑杆的顶端开设有齿槽,所述滑杆表面滑动连接有连接块,所述连接块内部开设有安装槽,所述安装槽的一侧槽壁固定安装有第二伺服电机,所述第二伺服电机的输出轴固定安装有齿轮,所述齿轮与齿槽啮合连接,所述连接块的底端固定安装有多个喷头,所述连接块的顶端固定安装有高压抽料泵,所述高压抽料泵的出料端与多个喷头连通,所述高压抽料泵的进料端固定连接有连接管,所述连接管与镀膜机主体的盛料端固定连接,所述镀膜腔的底端腔壁安装有固定机构,所述镀膜腔的两边侧均安装有抽气机构。
优选的,所述固定机构包括正反丝杆,所述镀膜腔的底端腔壁开设有滑槽,所述滑槽的内部滑动连接有两个滑块,所述滑槽的两侧腔壁通过嵌设的轴承转动连接有正反丝杆,所述正反丝杆的两端分别与对应滑块的中部螺纹连接,两个所述滑块的顶端固定安装有限位板,所述滑槽的一侧槽壁固定安装有第一伺服电机,所述第一伺服电机的输出轴与正反丝杆一端的端头处固定连接。
优选的,两个所述限位板的一侧均贴设有缓冲橡胶垫,两个所述缓冲橡胶垫的表面开设有均匀分布的防滑纹。
优选的,所述抽气机构包括两个空腔,所述镀膜腔两边侧均开设有空腔,两个所述空腔的一侧腔壁均固定安装有真空抽气泵,两个所述真空抽气泵的进气端均固定安装有气管,两个所述气管的一端均与镀膜腔的内部连通,两个所述气管的内部固定安装有电磁阀。
优选的,两个所述空腔的另一侧腔壁均开设有透气孔,两个所述透气孔的内部固定安装有防尘网。
优选的,所述镀膜腔顶端的一侧铰接有密封盖板,所述密封盖板的一侧固定安装有提手,所述密封盖板与镀膜腔的连接处贴设有密封条。
优选的,所述镀膜机主体底端的四个边角处均固定安装有带有刹片的万向轮。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
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