[实用新型]反射成像便携式指纹照相装置有效
申请号: | 202021197355.1 | 申请日: | 2020-06-24 |
公开(公告)号: | CN212569393U | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 陈进;周盛斌;杨奔;张福源;王栋;王毓;黄勤建;王克宇;段坚;王泽龙;杨攀;金帅 | 申请(专利权)人: | 无锡市科德科技有限公司 |
主分类号: | G03B17/17 | 分类号: | G03B17/17;G03B15/03;G06K9/00 |
代理公司: | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人: | 顾阳 |
地址: | 214005 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 成像 便携式 指纹 照相 装置 | ||
本实用新型提供了反射成像便携式指纹照相装置,其操作方便,体积小,不仅可实现明场和暗场照相,且可减弱甚至消除客体背景图案的干扰,获得质量较高的指纹图像;其包括箱体及开设于所述箱体上的照相孔,所述箱体内设有光源总成、分光镜,所述光源总成包括光源,所述光源发出的光透射过所述分光镜形成照明光路,位于所述照明光路末端的所述箱体上开设有用于照射指纹客体的检材孔,位于所述检材孔处的所述指纹客体被照射后反射的光经所述分光镜反射形成成像光路,所述成像光路上设置具有反光功能的光学元件,所述照相孔设置于经所述光学元件反射后的光路末端的所述箱体上。
技术领域
本实用新型涉及法庭科学技术领域,具体为反射成像便携式指纹照相装置。
背景技术
照相是指纹及其他痕迹物证检验工作中的重要环节,若在现场或检材上发现可见指纹、经过物理或化学法处理后的指纹,都要尽快照相记录,以防指纹消褪或被意外破坏;配光照相是通过选择白光光源或其他波长的光源,并通过改变照明光线入射角度和方向来调整控制检材反射光的亮度分布,以增强指纹纹线与客体背景图案的反差,减弱或消除客体背景图案的干扰,其中,配光照相的方法多样,对于光滑非渗透性、半渗透性平面客体表面附着的指纹,最常用的明场照相是定向反射照相,最常用的暗场照相是暗视场照相,而在不同现场中,指纹及其客体的种类和条件各不相同,也需要选择不同的配光方法才可有效显现指纹纹线和细节特征,但是,不同配光装置往往用途单一,例如,指纹照相中常用的定向反射镜装置,就只能做明场的定向反射照相;暗视场配光装置,就只能做暗视场照相,另外,现有的配光装置及其附属的遮光部件尺寸较大,不仅单人操作困难,而且现场勘查时由于空间、光线等环境条件复杂多变而难以使用,不易达到良好效果。对于使用定向反射配光装置获得指纹的明场图像,当相机镜头离指纹客体距离较远,即成像光路的光程较长时,指纹纹线与客体背景的反差较大,背景图案干扰较小,指纹显现质量较好,但装置高度必须较高,难以小型化;对于指纹的暗视场照相,通常采用位于相机镜头旁边的点光源照明,有时指纹边缘有光源的反射亮斑干扰指纹纹线显现,或者指纹呈现一侧纹线较亮另一侧纹线较暗的情况,缺乏一种无亮斑干扰、纹线照度均匀、反差较好的暗场照相装置。
因此,将配光设备集成到一个小型化便携式装置中,以实现指纹的各种明场和暗场照相,减弱背景图案干扰,获得质量较高的指纹图像,对于现场指纹的照相固定提取具有十分重要的意义。
发明内容
针对上述问题,本实用新型提供了反射成像便携式指纹照相装置,其操作方便,体积小,不仅可实现明场和暗场照相,且可减弱甚至消除客体背景图案的干扰,获得质量较高的指纹图像。
其技术方案是这样的:反射成像便携式指纹照相装置,包括箱体及开设于所述箱体上的照相孔,所述箱体内设有光源总成、分光镜,所述光源总成包括光源,其特征在于:所述光源发出的光透射过所述分光镜形成照明光路,位于所述照明光路末端的所述箱体上开设有用于照射指纹客体的检材孔,位于所述检材孔处的所述指纹客体被照射后反射的光经所述分光镜反射形成成像光路,所述成像光路上设置具有反光功能的光学元件,所述照相孔设置于经所述光学元件反射后的光路末端的所述箱体上。
进一步地,所述箱体内还设有聚光镜、成像物镜,所述聚光镜设置于所述光源与所述分光镜之间的所述照明光路上,所述成像物镜设置于所述分光镜与所述照相孔之间的所述成像光路上;
进一步地,所述聚光镜与所述光源之间的光学距离与所述聚光镜的焦距相同,所述光学元件采用第一反光镜,所述成像物镜设置于所述分光镜与第一反光镜之间,且所述分光镜、第一反光镜均与所述成像物镜的光轴呈45°夹角设置;
进一步地,所述照相孔设置于所述第一反光镜正上方的所述箱体上,所述检材孔设置于所述箱体的底部,所述检材孔的正上方设置所述分光镜,所述分光镜上方所述照明光路上依次设置所述聚光镜和光源;
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