[实用新型]一种用于SiC衬底的研磨装置有效
申请号: | 202021209632.6 | 申请日: | 2020-06-28 |
公开(公告)号: | CN212444717U | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 尤立鹏;申硕;李怀水;赵岩;李晓波 | 申请(专利权)人: | 同辉电子科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B31/10 | 分类号: | B24B31/10;B24B31/12;B24B57/04 |
代理公司: | 石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙) 13115 | 代理人: | 刘陶铭 |
地址: | 050200 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 sic 衬底 研磨 装置 | ||
1.一种用于SiC衬底的研磨装置,包括机体(1),设置在机体(1)内的驱动机构,设置在机体(1)上端且与驱动机构输出端连接的研磨盘(2),其特征在于:所述的研磨盘(2)上端面同心设置有多个环形凹槽(3),所述的研磨盘(2)上端面设置有呈环状结构的修正盘(4),所述的研磨盘(2)上端面设置有弹簧杆(5),所述的弹簧杆(5)借助固定架悬置于修正盘(4)的内侧,且下端与环形凹槽(3)的槽底顶紧贴合。
2.根据权利要求1所述的一种用于SiC衬底的研磨装置,其特征在于:所述弹簧杆(5)包括杆体(6)、依次设置在杆体(6)内的顶紧弹簧(7)和顶紧圆珠(8),所述的杆体(6)为带有内腔且下端开口的筒状结构,所述的杆体(6)下端的开口的内径小于杆体(6)内腔的内径,所述的顶紧圆珠(8)的直径与杆体(6)内腔的内径相适配,所述的顶紧圆珠(8)借助杆体(6)下端的开口伸出杆体(6)内腔并与环形凹槽(3)的槽底贴合。
3.根据权利要求2所述的一种用于SiC衬底的研磨装置,其特征在于:所述的固定架包括设置在机体(1)上的立柱(9),设置在立柱(9)上端并悬伸于研磨盘(2)上端的横臂(10),所述的横臂(10)一端与立柱(9)固定、另一端与杆体(6)上端固定。
4.根据权利要求1所述的一种用于SiC衬底的研磨装置,其特征在于:所述的环形凹槽(3)之间还设置有环形沟槽(11),所述的环形沟槽(11)的直径大于环形凹槽(3)的直径。
5.根据权利要求4所述的一种用于SiC衬底的研磨装置,其特征在于:所述的环形沟槽(11)设置有至少两个,沿研磨盘径向均匀分布,所述的修正盘(4)内至少设置有两个弹簧杆(5),所述的弹簧杆(5)分别设置在不同的环形沟槽(11)上端。
6.根据权利要求1所述的一种用于SiC衬底的研磨装置,其特征在于:所述的修正盘(4)借助环挡(12)贴合设置在研磨盘(2)上,所述的环挡(12)一端固定在机体(1)上端,另一端向研磨盘(2)圆心悬伸,所述的环挡(12)呈弧形结构,所述的环挡(12)上设置有滚轮(13),所述的修正盘(4)设置在环挡(12)形成的弧形凹槽内并与修正盘(4)上的滚轮(13)贴合。
7.根据权利要求1所述的一种用于SiC衬底的研磨装置,其特征在于:所述的研磨盘(2)上还设置吸盘(14),所述的吸盘(14)借助伸缩架固定在机体(1)上并悬伸于研磨盘(2)上端。
8.根据权利要求1所述的一种用于SiC衬底的研磨装置,其特征在于:所述的研磨盘(2)上设置有送料机构,所述的送料机构借助支架固定在机体(1)上并悬伸于研磨盘(2)上端。
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