[实用新型]一种面源黑体及其设备有效
| 申请号： | 202021222434.3 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN212320929U | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 王世辉;陈健;纪国伟;张超 | 申请（专利权）人： | 浙江大华技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J5/52 | 分类号： | G01J5/52 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 黎坚怡 |
| 地址： | 310051 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 黑体 及其 设备 | ||
1.一种面源黑体，其特征在于，所述面源黑体包括：
第一基体；
第二基体，可拆卸设置于所述第一基体上；
无机盐，铺设于所述第二基体背离所述第一基体的一端面上；
封闭层，封闭盖设于所述第二基体上铺设有所述无机盐的表面。
2.根据权利要求1所述的面源黑体，其特征在于，所述第二基体粘接于所述第一基体上，或者所述第二基体卡接于所述第一基体上。
3.根据权利要求2所述的面源黑体，其特征在于，所述第二基体通过背胶或点胶连接于所述第一基体，所述第二基体外周延伸形成有凸出部，所述封闭层封闭盖设于所述第二基体上除所述凸出部的其他部分。
4.根据权利要求3所述的面源黑体，其特征在于，所述凸出部由所述第二基体外周在所述第二基体所在平面延伸形成，或所述凸出部由所述第二基体外周弯折后延伸形成。
5.根据权利要求1所述的面源黑体，其特征在于，所述第二基体的表面形成有微孔。
6.根据权利要求5所述的面源黑体，其特征在于，所述第二基体的厚度大于等于0.5mm且小于等于1.2mm。
7.根据权利要求5所述的面源黑体，其特征在于，所述第二基体上设置有染料层，所述染料层铺设于填充了所述无机盐的所述微孔所在的所述第二基体表面。
8.根据权利要求1所述的面源黑体，其特征在于，所述无机盐为三氧化二铁、氧化铜、二氧化锰中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的面源黑体，其特征在于，所述第二基体为铝合金层。
10.一种面源黑体设备，其特征在于，所述设备包括壳体和所述面源黑体，所述面源黑体安装于所述壳体内，所述面源黑体为权利要求1至9任一所述的面源黑体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大华技术股份有限公司，未经浙江大华技术股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021222434.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：无人机机臂刀片式连接装置
- 下一篇：一种面源黑体及其设备
