[实用新型]一种面源黑体及其设备有效

专利信息
申请号: 202021222435.8 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN212320930U 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 王世辉;陈健;纪国伟;张超 申请(专利权)人: 浙江大华技术股份有限公司
主分类号: G01J5/52 分类号: G01J5/52
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 黎坚怡
地址: 310051 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 黑体 及其 设备
【权利要求书】:

1.一种面源黑体,其特征在于,所述面源黑体包括:

基体,所述基体的表面形成有微孔;

无机盐,填设于所述微孔内;

封闭层,封闭盖设于所述基体上形成所述微孔的表面。

2.根据权利要求1所述的面源黑体,其特征在于,所述无机盐为三氧化二铁、氧化铜、二氧化锰中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的面源黑体,其特征在于,所述基体上形成所述微孔的表面为粗糙处理后的粗糙表面。

4.根据权利要求1所述的面源黑体,其特征在于,所述微孔为纳米微孔。

5.根据权利要求1所述的面源黑体,其特征在于,所述面源黑体还包括染料层,所述染料层铺设于填充了所述无机盐的所述微孔所在的所述基体表面。

6.根据权利要求5所述的面源黑体,其特征在于,所述染料层的材质为无机物。

7.根据权利要求1所述的面源黑体,其特征在于,所述基体的材质为金属或金属合金。

8.根据权利要求7所述的面源黑体,其特征在于,所述基体为铝合金层。

9.一种面源黑体设备,其特征在于,所述设备包括壳体和所述面源黑体,所述面源黑体安装于所述壳体内,所述面源黑体为权利要求1至8任一所述的面源黑体。

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