[实用新型]一种基于耦合场控制的微水流偏转控制装置有效
| 申请号： | 202021242693.2 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN212287960U | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 赵吉宾;乔红超;曹治赫;张旖诺;于永飞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳自动化研究所 |
| 主分类号： | B26F3/00 | 分类号： | B26F3/00;B26D5/00 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 汪海 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 耦合 控制 水流 偏转 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于耦合场控制的微水流偏转控制装置，其特征在于：包括座体、喷嘴(2)和耦合场发生元件(3)，其中座体内设有高压水腔(1)和水射流通道，且所述水射流通道与所述高压水腔(1)连通的入水端设有喷嘴(2)，高压水腔(1)内的高压水经所述喷嘴(2)后形成水射流(4)射入所述水射流通道中，所述水射流通道的出水端设有耦合场发生元件(3)，且水射流(4)经过耦合场发生元件(3)中的耦合场(6)后射出。
2.根据权利要求1所述的基于耦合场控制的微水流偏转控制装置，其特征在于：所述座体在耦合场发生元件(3)下侧的出口为扩口端。
3.根据权利要求1所述的基于耦合场控制的微水流偏转控制装置，其特征在于：所述耦合场发生元件(3)材料为导电金属、合金或导电复合材料。
4.根据权利要求1所述的基于耦合场控制的微水流偏转控制装置，其特征在于：所述耦合场(6)强度为2.2×103～2.2×106N/C。
5.根据权利要求1所述的基于耦合场控制的微水流偏转控制装置，其特征在于：所述高压水腔(1)内的高压水压力值范围为20MPa～100MPa。
6.根据权利要求1所述的基于耦合场控制的微水流偏转控制装置，其特征在于：所述喷嘴(2)以宝石体为载体，喷嘴(2)直径为50～200μm。
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