[实用新型]一种遮覆板及母材的喷砂装置

说明书

本实用新型涉及遮覆板及母材加工技术领域，具体地说，涉及一种遮覆板及母材的喷砂装置，包括喷砂箱，喷砂箱的内部靠近两侧处均设有固定装置，固定装置包括固定座，固定座的上方设有固定板，固定板的内部开设有两个第一导向孔和两个第二导向孔，固定板的上方设有顶板，固定座的顶壁通过螺栓固定有两个支撑柱，支撑柱的顶端穿过第一导向孔且与顶板之间通过螺栓固定连接，固定座的顶壁焊接有两个螺纹杆，螺纹杆的顶端穿过第二导向孔且螺纹连接有螺母，固定板与顶板之间焊接有两个弹簧，该遮覆板及母材的喷砂装置，可对遮覆板及母材进行旋转翻面，便于对遮覆板及母材的正反面进行喷砂处理，提高了工作效率。

技术领域

本实用新型涉及遮覆板及母材加工技术领域，具体地说，涉及一种遮覆板及母材的喷砂装置。

背景技术

在半导体制程中，必须定期或不定期地对半导体制程设备的零件进行清洗及再生，以维持半导体制程设备的效能，并可延长设备的使用寿命。以物理气相沉积制程为例，物理气相沉积制程主要是在一基板上沉积一薄膜。首先利用一直流电源分别电性耦接至一背板及一遮覆板，通过该背板及该遮覆板于该反应室腔体内形成电场将离子枪束击向金属靶材，在离子枪束撞击靶材后，会将该靶材上的金属溅射在该基板、遮覆板上而形成该薄膜，因此必须对遮覆板进行洗净与再生，防止后续工作时该遮覆板上的金属镀膜破裂或剥落所产生之微尘粒子散布至基板而影响良率。所谓洗净系指针对反应室腔体中该遮覆板及母材及该母材之金属镀膜的材质选用适当之方法与材料予以去除，例如以酸性或碱性之化学溶液浸泡反应室腔体，将形成于遮覆板及母材表面之金属镀膜溶解分离。所谓再生是指洗净后再以喷砂及整形等方式恢复该遮覆板及母材原有外形与表面特性。

但是，现有的喷砂装置每次只能对遮覆板及母材的一面进行喷砂，当需要对遮覆板及母材的另一面进行喷砂时，需要对遮覆板及母材进行人工翻面处理，耗费了大量的时间，降低了工作效率。鉴于此，我们提出一种遮覆板及母材的喷砂装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种遮覆板及母材的喷砂装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种遮覆板及母材的喷砂装置，包括喷砂箱，所述喷砂箱的内部靠近两侧处均设有固定装置，所述固定装置包括固定座，所述固定座的上方设有固定板，所述固定板的内部开设有两个第一导向孔和两个第二导向孔，所述固定板的上方设有顶板，所述固定座的顶壁通过螺栓固定有两个支撑柱，所述支撑柱的顶端穿过第一导向孔且与所述顶板之间通过螺栓固定连接，所述固定座的顶壁焊接有两个螺纹杆，所述螺纹杆的顶端穿过第二导向孔且螺纹连接有螺母，所述固定板与所述顶板之间焊接有两个弹簧，两个所述固定座相互远离的一侧外壁上均焊接有转轴；所述喷砂箱的顶部内壁靠近中间位置处设有加压箱，所述加压箱的底壁连接有多个喷砂管，所述喷砂管的末端连接有喷头。

优选的，所述喷砂箱的左侧壁通过螺栓固定安装有电机，所述电机的输出轴端部延伸至所述喷砂箱的内部且与位于左侧处的转轴同轴连接。

优选的，所述喷砂箱上方设有储料箱，所述储料箱的顶壁焊接有进料斗，所述储料箱的底壁靠近中心位置处焊接有下料管，所述下料管的底端延伸至所述加压箱的内部，所述下料管上安装有电磁阀。

优选的，所述储料箱的底壁靠近两侧处均焊接有支撑块，所述支撑块的底部通过螺栓固定在所述喷砂箱上，所述加压箱通过螺栓固定在所述喷砂箱的顶部内壁上。

优选的，所述喷砂箱的顶壁靠近左侧处通过螺栓固定安装有气泵，所述气泵的出气端连接有进气管，所述加压箱的左侧壁焊接有进气罩，所述进气管的末端穿过所述喷砂箱且延伸至所述进气罩的内部。

优选的，所述喷砂箱的前侧壁开口处铰接有两个箱门，所述箱门的内部开设有观察孔，且观察孔的内壁上粘接有观察窗，所述箱门的外壁上通过螺栓固定有门把手。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：