[实用新型]一种晶圆级光学系统有效

专利信息
申请号: 202021268593.7 申请日: 2020-07-02
公开(公告)号: CN212276014U 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 王林;李菲;冯晓甜 申请(专利权)人: 华天慧创科技(西安)有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02B5/20
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李红霖
地址: 710018 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 晶圆级 光学系统
【说明书】:

实用新型涉及光学技术领域,公开了一种晶圆级光学系统,包括微透镜层、基底玻璃、第一截止膜、第二截止膜、第一光阑孔阵列层和第二光阑孔阵列层;微透镜层位于最上层,第一光阑孔阵列层和第二光阑孔阵列层位于基底玻璃一侧,第一光阑孔阵列层与第二光阑孔阵列层相对距离减小,避免了第一光阑孔阵列层大角度出射角光线对第二光阑孔阵列层的干扰,从而避免了杂光对成像的干扰。第一截止膜设置在第二截止膜的上方,第一截止膜为远红外截止膜,用于截止红外光;第二截止膜为近红外截止膜,用于截止可见光的红光,或可见光的红光和部分红外光。能够大量减少或避免上表面上红色光线反射造成系统的颜色差异,易于测量,增加客户满意度。

技术领域

本实用新型涉及光学技术领域,特别涉及一种晶圆级光学系统。

背景技术

近年来,晶圆级微透镜行业发展日新月异,以微透镜为组件的晶圆级光学系统的应用也发展迅速,尤其是在便携式移动终端及其他ID识别终端的应用。现有的晶圆级光学系统一般采用的是在基底玻璃两面各设置一层红外截止膜和一层光阑孔(阵列),两层光阑孔距离较远。

因为近一层截止膜对红光的反射造成有些测量不便、透镜色颜色差异、并对客户满意度造成相应影响。并且两层光阑孔在基底玻璃的两面,造成两层光阑孔相距较远。主要受制于晶圆玻璃基材规格尺寸,造成上层光阑孔(阵列)所出射的光线没有全部入射与其正对的下层光阑孔,而是部分角度较大的光线入射到下层光阑孔(阵列)相邻的光阑孔中,进而导致成像干扰,影响光学系统及成像模组的整体性能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶圆级光学系统,解决了红外截止膜上表面泛红颜色及光阑孔距离较远造成的成像干扰问题。

本实用新型是通过以下技术方案来实现:

一种晶圆级光学系统,包括微透镜层、基底玻璃、第一截止膜、第二截止膜、第一光阑孔阵列层和第二光阑孔阵列层;

微透镜层位于最上层,第一光阑孔阵列层和第二光阑孔阵列层位于基底玻璃一侧,第一光阑孔阵列层和第二光阑孔阵列层之间存在距离;

第一截止膜设置在第二截止膜的上方,第一截止膜为远红外截止膜,用于截止红外光;第二截止膜为近红外截止膜,用于截止可见光的红光,或可见光的红光和部分红外光。

进一步,第一截止膜截止波长为900~1200nm;第二截止膜截止波长为600~900nm。

进一步,包括自上而下设置的微透镜层、第一截止膜、基底玻璃、第一光阑孔阵列层、第二截止膜和第二光阑孔阵列层。

进一步,在第二截止膜和第二光阑孔阵列层之间设有光学压印胶层。

进一步,在第一截止膜的上表面或下表面加设第三光阑孔阵列层。

进一步,包括自上而下设置的微透镜层、基底玻璃、第一光阑孔阵列层、第一截止膜、第二光阑孔阵列层和第二截止膜。

进一步,在第一截止膜和第二光阑孔阵列层之间还设有光学压印胶层。

进一步,在基底玻璃的上表面或第二截止膜的下表面加设第三光阑孔阵列层。

进一步,包括自上而下设置的微透镜层、第一光阑孔阵列层、光学压印胶层、第二光阑孔阵列层、第一截止膜、基底玻璃和第二截止膜。

进一步,在第二截止膜的上表面或下表面加设第三光阑孔阵列层。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益的技术效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华天慧创科技(西安)有限公司,未经华天慧创科技(西安)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021268593.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top