[实用新型]一种用于成像系统的定标体有效
申请号: | 202021293120.2 | 申请日: | 2020-07-06 |
公开(公告)号: | CN212872959U | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 侯丽伟;谢巍;袁毅;潘鸣 | 申请(专利权)人: | 上海亨临光电科技有限公司 |
主分类号: | G01V13/00 | 分类号: | G01V13/00 |
代理公司: | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人: | 杜丹盛 |
地址: | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 成像 系统 定标 | ||
本实用新型提供了一种用于成像系统的定标体,其置于成像系统内,用于提供均匀的辐射源,方便后续进行非均匀性校正,且其结构简单、方便布置。其包括吸波材料层、金属板、加热片、保温层和温控模块,所述吸波材料层覆盖于所述金属板的一表面,所述金属板的另一表面覆盖有所述加热片,所述加热片的远离所述金属板的冷面覆盖有保温层,所述加热片通过线路连接温控模块。
技术领域
本实用新型涉及成像系统的技术领域,具体为一种用于成像系统的定标体。
背景技术
毫米波/太赫兹探测器的输出受工作温度、自身参数等因素的影响,即使对同样目标成像,不同探测器的输出也各不相同,即使同一探测器在不同时刻不同条件下,其输出也是不一样的,这种现象称为探测器的非均匀性。因为非均匀性的存在,使用线列式毫米波/太赫兹探测器进行成像时,出现象条带噪声,因此需要进行非均匀性校正。现有的定标体结构相对复杂,不适于成像系统使用。
发明内容
针对上述问题,本实用新型提供了一种用于成像系统的定标体,其置于成像系统内,用于提供均匀的辐射源,方便后续进行非均匀性校正,且其结构简单、方便布置。
一种用于成像系统的定标体,其特征在于:其包括吸波材料层、金属板、加热片、保温层和温控模块,所述吸波材料层覆盖于所述金属板的一表面,所述金属板的另一表面覆盖有所述加热片,所述加热片的远离所述金属板的冷面覆盖有保温层,所述加热片通过线路连接温控模块。
其进一步特征在于:
所述吸波材料层具体为平板型吸波材料层或喷涂型吸波材料层;
所述吸波材料层的材质具体为泡棉型吸波材料、橡胶型吸波材料、导电聚合物;
所述吸波材料层具体为平板型吸波材料层时,所述平板型吸波材料层通过耐高温胶层和所述金属板粘结;
所述吸波材料层具体为喷涂型吸波材料层时,所述金属板的外表面直接喷涂吸波材料、形成喷涂型吸波材料层;
所述金属板具体为导电性良好的金属,所述金属板的未覆盖吸波材料层的表面粘贴有所述加热片,所述加热片的加热表面和所述金属板粘贴连接;
所述金属板上设置有温度触点,所述温度触点通过线连接至所述温控模块,所述温控模块的电流输出端连接至所述加热片的输入端,金属板实时温度反馈至温控模块,温控模块根据预设的温度数值实时调整输入电流的大小,确保金属板保持恒温状态,进而使得整个定标体处于恒温状态。
定标体进行毫米波/太赫兹成像系统非均匀性校正的方法,其特征在于:将定标体放置于成像系统视场范围内,定标体的大小以覆盖成像系统所有探测器所对应的视场为准,成像系统进行成像时,以图像中定标体区域计算各探测器输出信号,以此做为各探测器输出的直流偏置,在此后的成像过程中,去除此直流偏置。
定标体进行毫米波/太赫兹成像系统非均匀性校正的方法,其特征在于:在定标体上增加一个电动机构,并将定标体安装于成像系统探测器的前部,定标体的大小以覆盖探测器为准,当需要进行非均匀性校正时,启动电动机构,将定标体遮挡于探测器前,进行信号采集,计算此时探测器的直流偏置,再次启动电动机构,将定标体撤离探测器的前部区域,使成像系统正常成像,正常成像的数据去除前述直流偏置,即为非均匀性校正结果。
采用本实用新型的结构后,定标体的制作方便快捷,且方便布置,置于成像系统内,用于计算各探测器对应的直流偏置,方便后续进行非均匀性校正。
附图说明
图1为本实用新型的定标体的具体实施例一的立体图爆炸结构示意简图;
图2为图1组装状态下的俯视图结构示意;
图3为本实用新型的定标体的具体实施例二的立体图爆炸结构示意简图;
图4为图3组装状态下的俯视图结构示意;
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