[实用新型]一种加工设备有效
申请号: | 202021322015.7 | 申请日: | 2020-07-07 |
公开(公告)号: | CN212182350U | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 徐贵阳 | 申请(专利权)人: | 武汉帝尔激光科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 韩静粉 |
地址: | 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区华*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 加工 设备 | ||
1.一种加工设备,其特征在于,包括:
若干个加工装置(1),若干个所述加工装置(1)沿着物料的加工工序沿横向依次排布,分别用于根据各自加工工序对所述物料加工处理,以形成加工流水线;
传送结构(2),所述传送结构(2)用于传送所述物料到各个所述加工装置(1),
所述传送结构(2)沿着所述物料的加工工序呈直线延伸设置,且所述加工装置(1)沿着所述传送结构(2)的传送方向依次排布,
或者
所述传送结构(2)的个数为若干个,若干个所述传送结构(2)呈直线依次排布,且所述传送结构(2)与所述加工装置(1)间隔设置。
2.根据权利要求1所述的加工设备,其特征在于,还包括产品定位结构(3),
所述产品定位结构(3)设置在所述加工流水线的进料侧,用于定位纠偏所述物料;
和/或
所述加工设备还包括检测结构(4),
所述检测结构(4)设置在所述加工流水线的出料侧,用于检测加工后的物料。
3.根据权利要求1所述的加工设备,其特征在于,还包括上游机台(6),
所述上游机台(6)串联设置在所述加工流水线的进料侧;
和/或
所述加工设备还包括下游机台(7),
所述下游机台(7)串联设置在所述加工流水线的出料侧。
4.根据权利要求1所述的加工设备,其特征在于,还包括上料装置(9),
所述上料装置(9)安装在所述加工流水线的进料侧,用于上料;
和/或
所述加工设备还包括下料装置(10),
所述下料装置(10)安装在所述加工流水线的出料侧,用于出料。
5.根据权利要求4所述的加工设备,其特征在于,所述上料装置(9)包括:
支架(901);
传输组件(902),所述传输组件(902)安装在所述支架(901)上,用于所述物料的输送;
吸附输送组件(903),所述吸附输送组件(903)安装在所述支架(901)上,且位于所述加工流水线的进料侧的上方,所述吸附输送组件(903)能够将所述传输组件(902)输送来的物料吸附并输送到所述加工流水线上。
6.根据权利要求5所述的加工设备,其特征在于,所述传输组件(902)包括:
第一带传送滑轨(9021),所述第一带传送滑轨(9021)安装在所述支架(901)上,且所述第一带传送滑轨(9021)的输送方向与所述加工流水线的方向垂直;
第二带传送滑轨(9022),所述第二带传送滑轨(9022)安装在所述支架(901)上,位于所述第一带传送滑轨(9021)的下方,且与所述第一带传送滑轨(9021)平行设置;
升降机构(9023),所述升降机构(9023)安装在所述支架(901)上,且能够升降,将所述第一带传送滑轨(9021)传输的物料输送到所述第二带传送滑轨(9022)上;
第三带传送滑轨(9024),所述第三带传送滑轨(9024)与所述第二带传送滑轨(9022)垂直设置,且所述第三带传送滑轨(9024)延伸到所述吸附输送组件(903)的下方。
7.根据权利要求6所述的加工设备,其特征在于,所述升降机构(9023)的个数为2个,分别设置在所述第二带传送滑轨(9022)的两端;
所述第三带传送滑轨(9024)包括升降部、第一传送部(90241)和第二传送部(90242),所述升降部和所述第二传送部(90242)均安装在所述支架(901)上,所述第一传送部(90241)安装在所述升降部上,且位于所述第二带传送滑轨(9022)内,能够将所述第二带传送滑轨(9022)上的物料顶升并传送到所述第二传送部(90242)上;
和/或
所述物料通过料盒(8)盛放,且所述料盒(8)置于所述传输组件(902)上,通过所述料盒(8)传送所述物料。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的