[实用新型]治理水库库岸水土流失的构件

说明书

一种治理水库库岸水土流失的构件，包括中心基座，中心基座底面开设有种植腔，中心基座顶面开设有种植孔，种植孔与种植腔相通；中心基座边缘设置有多个基角，多个基角绕中心基座环形设置；中心基座侧壁开设有排水口。所述的中心基座为四棱台结构，中心基座的横截面由顶面向底面逐渐变大；基角为四方体结构，基角的数量为四个，四个基角分别设置在中心基座四个拐角处。本实用新型能够减少水库库岸水土流失，方便种植植被提高了土壤固化效果。

技术领域

本实用新型属于水库库岸边坡修复领域，特别涉及一种治理水库库岸水土流失的构件。

背景技术

目前治理水库库岸水土流失，在固化水库库岸的同时，而且还要注重其生态植被的恢复工作，但都存在着治标不治本的现象。技术人员通过设计固定种植网格、填土种植的地被植物，短时间内会取得较好的效果，但由于种植土裸露，经不住长时间的流水、雨水的冲刷，最终还是造成水土流失，达不到固土和理想的生态修复效果。

发明内容

鉴于背景技术所存在的技术问题，本实用新型所提供的治理水库库岸水土流失的构件，能够减少水库库岸水土流失，方便种植植被提高了土壤固化效果。

为了解决上述技术问题，本实用新型采取了如下技术方案来实现：

一种治理水库库岸水土流失的构件，包括中心基座，中心基座底面开设有种植腔，中心基座顶面开设有种植孔，种植孔与种植腔相通；中心基座边缘设置有多个基角，多个基角绕中心基座环形设置；中心基座侧壁开设有排水口。

优选的方案中，所述的中心基座为四棱台结构，中心基座的横截面由顶面向底面逐渐变大；基角为四方体结构，基角的数量为四个，四个基角分别设置在中心基座四个拐角处。

优选的方案中，所述的基角下端凸出于中心基座底面。

优选的方案中，所述的基角下端面低于中心基座底面2-5cm。

优选的方案中，所述的排水口的数量为多个，多个排水口环形设置在中心基座侧壁的下边缘。

优选的方案中，所述的种植腔为半球形槽结构。

本专利可达到以下有益效果：

1、中心基座为四棱台结构，中心基座的侧壁为斜面，可防止流水和雨水冲刷。

2、半球形槽形成了从种植孔向下渐扩的空腔结构，利于植被根系的生长，在旱季少雨时，由于构件内半球形的种植腔，内大外小的特点，不会造成土壤水分的流失，能为植物正常生长提供充足的水分。当构件内水过多时，可以通过排水孔排出植物根部多余的水分。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

图1为本实用新型三维结构图图一；

图2为本实用新型三维结构图图二；

图3为网径铺设结构图。

图中：中心基座1、种植腔2、种植孔3、基角4、排水口5。

具体实施方式

优选的方案如图1至图2所示，一种治理水库库岸水土流失的构件，包括中心基座1，中心基座1底面开设有种植腔2，中心基座1顶面开设有种植孔3，种植孔3与种植腔2相通；中心基座1边缘设置有多个基角4，多个基角4绕中心基座1环形设置；中心基座1侧壁开设有排水口5。种植腔2用于为植被的根系提供生长空间，种植孔3处用于种植植被，基角4起到稳定支撑的作用；排水口5用于排水换气。