[实用新型]一种等离子清洗机压盖

说明书

本实用新型涉及一种等离子清洗机压盖，属于半导体加工技术领域；其包括与机架竖向滑动连接的转动座、与转动座转动铰接的转动支撑梁、设置在转动支撑梁上的盖壳以及能够限制转动支撑梁转动的，所述限位装置包括设置在转动座外侧的水平限位挂轴、设置在转动座外侧的掀盖限位挂轴以及与转动支撑梁转动连接的限位挂勾，所述盖壳转动至水平位置时，限位挂勾能够勾设在水平限位挂轴上，所述限位挂勾设在掀盖限位挂轴上时，盖壳的最外侧高于盖壳的最内侧；本实用新型提供了一种等离子清洗机压盖，能够在压盖掀起后对压盖进行限位固定，为操作人员提供了方便，确保了使用安全性。

技术领域

本实用新型涉及一种等离子清洗机压盖，属于半导体加工技术领域。

背景技术

等离子清洗机常用语半导体领域，可对引线框架、PCB板、晶圆、陶瓷等材料进行清洗，等离子清洗过程需要真空环境，现有技术时提供一个腔室和压盖，清洗过程中压盖密封盖压在腔室上，随后腔室做真空处理，清洗完成后，再手动将压盖掀开抬起，现有的压盖掀开抬起后，无法直接固定住，需要人工手动扶持，保持固定姿势，压盖一般为金属材质，重量较重，人工维持压盖掀起状态费时费力，而且很不安全。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种等离子清洗机压盖，能够在压盖掀起后对压盖进行限位固定，为操作人员提供了方便，确保了使用安全性。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种等离子清洗机压盖，其包括与机架竖向滑动连接的转动座、与转动座转动铰接的转动支撑梁、设置在转动支撑梁上的盖壳以及能够限制转动支撑梁转动的限位装置，所述限位装置包括设置在转动座外侧的水平限位挂轴、设置在转动座外侧的掀盖限位挂轴以及与转动支撑梁转动连接的限位挂勾，所述盖壳转动至水平位置时，限位挂勾能够勾设在水平限位挂轴上，所述限位挂勾设在掀盖限位挂轴上时，盖壳的最外侧高于盖壳的最内侧。

进一步地，所述机架上设有竖向延伸的升降滑轨，所述转动座上设有能够卡套在升降滑轨上竖向滑动的升降滑套，所述机架上还设有能够驱动转动座升降的电动丝杆。

进一步地，所述盖壳与转动支撑梁之间通过弹簧弹性连接。

进一步地，所述转动支撑梁与转动座之间通过转动销轴连接，所述转动销轴穿出至转动座外部，形成水平限位挂轴。

进一步地，所述转动支撑梁上设有外凸的水平限位块，所述盖壳转动至水平位置时，水平限位块能够顶抵在转动座前侧面上。

进一步地，所述盖壳前侧面上开设有透明观察窗。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果：

本技术方案设有限位挂勾、水平限位挂轴以及掀盖限位挂轴，能够方便地对转动到指定角度的盖壳进行限位固定，无需人力去维持，减少了人工作业量，提高了使用舒适性和安全性；

本技术方案设有水平限位块，和限位挂勾、水平限位挂轴一起作用，保证盖壳转动至水平位置后的稳定性，使用更安全可靠；

本技术方案设有弹簧能够对盖壳与清洗腔室之间的接触受力提供缓冲，防止短时间内应力过大造成设备损坏变形；

本技术方案设有透明观察窗，方便操作人员从外部对设备内部进行观察，使用更方便安全。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的一种等离子清洗机压盖的立体结构示意图一；

图2是本实用新型实施例提供的一种等离子清洗机压盖的立体结构示意图二；

图3是本实用新型实施例提供的一种等离子清洗机压盖的局部结构侧视放大示意图一；

图4是本实用新型实施例提供的一种等离子清洗机压盖的局部结构侧视放大示意图二。