[实用新型]一种用于蓝玻璃抛光机的抛光液过滤器有效

专利信息
申请号: 202021362135.X 申请日: 2020-07-12
公开(公告)号: CN213159742U 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 彭爱国 申请(专利权)人: 湖北蓝晶元光电科技发展有限公司
主分类号: B01D36/02 分类号: B01D36/02;B01D35/16
代理公司: 北京市浩东律师事务所 11499 代理人: 李琼
地址: 434000 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 玻璃 抛光机 抛光 过滤器
【说明书】:

本实用新型涉及抛光液过滤器技术领域,且公开了一种用于蓝玻璃抛光机的抛光液过滤器,包括抛光机本体,所述抛光机本体的内部固定连接有控制板,所述抛光机本体的顶部固定连接有抛光机底座,所述抛光机底座的上方设置有支撑板,所述支撑板的顶部固定连接有抛光液箱,所述抛光液箱的右侧外壁固定连接有输管。该用于蓝玻璃抛光机的抛光液过滤器,通过推动板下面设置的第二支撑块、第一支撑块、支撑腿,第一支撑块、第二支撑块和支撑腿起到支撑的作用,通过第二齿轮一侧设置的驱动电机,驱动电机起到控制的作用,通过第一齿轮、第二齿轮、连接块和第一活动杆的设置,第二支撑块和推动板起到了按压的作用能够更好的对抛光液进行过滤。

技术领域

本实用新型涉及抛光液过滤器技术领域,具体为一种用于蓝玻璃抛光机的抛光液过滤器。

背景技术

随着半导体制造技术的快速发展,工艺特征尺寸不断微缩以及集成度不断提高,一些传统的工艺面临着挑战。例如,用于硅片全局平坦化的化学机械抛光工艺,当半导体器件的特征尺寸缩小到一定程度时,化学机械抛光工艺由于其自身固有的特性已不再适用。人们除了不断改进现有工艺外,也在寻求新的工艺来取代现有工艺,为了克服化学机械抛光工艺在处理超微细特征尺寸半导体器件时出现的缺陷,目前,市场上供应的抛光液,半导体厂商买来后还需要根据工艺需求对抛光液进行处理,检测和调节抛光液的各项参数,使其满足要求。例如,需要检测抛光液中的颗粒含量,如果抛光液中的颗粒含量较高,则需要对抛光液进行过滤处理,否则颗粒含量过高的抛光液接触硅片后,会导致硅片被污染,降低了使用效率。此外,电化学抛光过程中,为了降低工艺成本,抛光液会重复使用,回收的抛光液在下次使用之前,同样需要将抛光液的各项参数调至工艺需求的范围,其中也包括对抛光液进行过滤处理,因此,我们提出了一种用于蓝玻璃抛光机的抛光液过滤器来解决上述问题。

发明内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种用于蓝玻璃抛光机的抛光液过滤器,具备过滤、使用效率高等优点,解决了不能过滤、使用效率低的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种用于蓝玻璃抛光机的抛光液过滤器,包括抛光机本体,所述抛光机本体的内部固定连接有控制板,所述抛光机本体的顶部固定连接有抛光机底座,所述抛光机底座的上方设置有支撑板,所述支撑板的顶部固定连接有抛光液箱,所述抛光液箱的右侧外壁固定连接有输管,所述输管的另一端固定连接有过滤器结构,所述抛光机本体的内部固定连接有支撑杆。

进一步的,所述过滤器结构包括过滤器本体,所述过滤器本体的顶部开设有抛光液入口,所述过滤器本体的右侧内部开设有颗粒出口,所述颗粒出口的内部活动连接有阀门,所述过滤器本体的内部固定连接有过滤板,所述过滤板的顶部固定连接有过滤海绵,所述过滤海绵的顶部设置有按压结构,所述过滤器本体的底部开设有抛光液出口,所述过滤器本体的内部固定连接有敲打结构。

进一步的,所述按压结构包括支撑腿,所述支撑腿的底部活动连接有活动轴,所述支撑腿的一侧活动连接有第一支撑块,所述第一支撑块的一端固定连接有第一活动杆,所述第一活动杆的内部活动连接有连接块,所述第一活动杆的一端固定连接有第二支撑块,所述第二支撑块的一端固定连接有推动板,所述连接块的一端固定连接有第一齿轮,所述第一齿轮的一侧啮合有第二齿轮,所述第二齿轮的一侧外壁固定连接有驱动电机。

进一步的,所述敲打结构包括转轮,所述转轮的内部活动连接有第一转动轴,所述第一转动轴的一端外壁活动连接有固定块,所述第一转动轴的外壁固定连接有连接杆,所述第一转动轴的左侧设置有第二活动杆,所述第二活动杆的内部活动连接有第二转动轴,所述第二活动杆的顶部固定连接有敲打柱,所述敲打柱的顶部固定连接有敲打板。

进一步的,所述第一活动杆的内部开设有条形孔,且条形孔的一侧内部活动连接有连接块,所述支撑腿的一侧固定连接有过滤器本体,所述推动板的底部活动连接有过滤海绵。

进一步的,所述支撑板的顶部固定连接有支撑杆,所述颗粒出口的数量有两个,且每个颗粒出口的大小相同,所述抛光机底座的上方设置有过滤器结构,所述敲打板的顶部活动连接有过滤板。

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