[实用新型]一种陶瓷生产加工用表面均匀喷涂装置

说明书

本实用新型涉及陶瓷加工技术领域，且公开了一种陶瓷生产加工用表面均匀喷涂装置，包括喷涂室，喷涂室内设有支撑台，且支撑台通过支撑柱与喷涂室内部的下表面固定连接，支撑台的上方设有U型喷涂板，且U型喷涂板为中空结构设置，U型喷涂板的相向侧均固定连通有多个均匀分布的喷头，U型喷涂板的外侧壁上对称固定连接有L型杆，L型杆的另一端固定连接有T型滑块，喷涂室内部的上表面开设有与T型滑块相匹配的环形滑槽，且环形滑槽的截面呈T型结构设置，T型滑块与环形滑槽滑动连接，喷涂室的顶部固定连接有原料箱。本实用新型不仅方便对陶瓷产品进行全面均匀的喷涂，而且避免了喷涂料的沉淀，从而有效提高喷涂质量。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷加工技术领域，尤其涉及一种陶瓷生产加工用表面均匀喷涂装置。

背景技术

陶瓷是陶器和瓷器的总称，常见的陶瓷材料有粘土、氧化铝、高岭土等。陶瓷材料一般硬度较高，但可塑性较差，除了使用于食器、装饰上外，陶瓷在科学、技术的发展中亦扮演着重要角色，陶瓷原料是地球原有的大量资源黏土经过淬取而成。陶瓷的喷涂具有：耐抗菌性、耐酸性、耐碱性、不粘性、耐高温性和高硬度的特点

在中国专利授权号为CN110893643A的专利中，公开了一种陶瓷表面均匀喷涂装置，在使用时，将多个工件和多个转动台放置在输送台上，工件放置在转动台上，然后通过调节机构将喷头的位置对准工件的位置，然后启动喷涂机，喷涂机通过喷头对工件进行喷涂，在喷涂的同时，启动转动台，转动台带动其上的工件进行转动，同时输送台带动多个工件进行移动，使得喷涂效率得到较大提升；但是该方案仍存在以下缺陷：

转动台带动工件转动存在不稳定性，而且在喷涂过程中原料箱内的喷涂料不具备混合搅拌的功能，易发生沉淀，从而影响喷涂质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中陶瓷表面均匀喷涂装置稳定性较差，以及喷涂原料易发生沉淀的问题，而提出的一种陶瓷生产加工用表面均匀喷涂装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种陶瓷生产加工用表面均匀喷涂装置，包括喷涂室，所述喷涂室内设有支撑台，且支撑台通过支撑柱与喷涂室内部的下表面固定连接，所述支撑台的上方设有U型喷涂板，且U型喷涂板为中空结构设置，所述U型喷涂板的相向侧均固定连通有多个均匀分布的喷头，所述U型喷涂板的外侧壁上对称固定连接有L型杆，所述L型杆的另一端固定连接有T型滑块，所述喷涂室内部的上表面开设有与T型滑块相匹配的环形滑槽，且环形滑槽的截面呈T型结构设置，所述T型滑块与环形滑槽滑动连接，所述喷涂室的顶部固定连接有原料箱，所述喷涂室内部的上表面固定安装有泵体，且泵体的输入端与原料箱固定连通，所述泵体的输出端固定连通有输料管，所述输料管的底端通过第一密封轴承转动连接有转管，所述转管与原料箱之间安装有联动混料机构，所述转管的底端与U型喷涂板顶部的中心处固定连通；

所述联动混料机构包括通过机架固定安装在原料箱顶部的驱动电机，所述驱动电机的输出端固定连接有搅拌杆，所述搅拌杆依次贯穿原料箱和喷涂室的顶部并向下延伸，所述搅拌杆与原料箱之间通过第二密封轴承转动连接，所述搅拌杆与喷涂室顶部转动连接，位于所述原料箱内的搅拌杆上固定焊接有多个均匀交错分布的搅拌叶，所述搅拌杆靠近底端的位置处固定套接有主动链轮，所述转管的外管壁上固定套接有从动链轮，且主动链轮和从动链轮上共同套设有匹配的链条。

优选的，所述T型滑块靠近环形滑槽槽底的一侧开设有滚珠槽，且滚珠槽内安装有滚珠，所述滚珠远离滚珠槽槽底的一端穿过滚珠槽的槽口并向外延伸，且与环形滑槽的槽底滚动连接。

优选的，所述搅拌叶上开设有多个均匀分布的通孔。

优选的，所述原料箱靠近顶部的侧壁上固定连通有进料斗。

优选的，所述滚珠的球径大于滚珠槽槽口的槽径。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种陶瓷生产加工用表面均匀喷涂装置，具备以下有益效果：