[实用新型]一种环氧地坪研磨机打磨抛光装置有效

专利信息
申请号: 202021383821.5 申请日: 2020-07-14
公开(公告)号: CN212705836U 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 曹淑萍 申请(专利权)人: 济宁尼科赛机械有限公司
主分类号: B24B7/18 分类号: B24B7/18;B24B41/02;B24B41/04;B24B47/12;B24B41/00
代理公司: 烟台炳诚专利代理事务所(普通合伙) 37258 代理人: 王素花
地址: 272000 山东省济宁市任*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 地坪 研磨机 打磨 抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种环氧地坪研磨机打磨抛光装置,其特征在于:包括机架座,在机架座下方设有两相对间隔设置的橡胶轮,在与橡胶轮相对一侧的机架座下设有两相对间隔设置的扶手安装孔,在橡胶轮一侧上方的机架座上设有安装板,一配重连轴通过一连接板装配在安装板上,在配重连轴上方设有皮带轮,在配重连轴下方设有保护罩,在保护罩下方设有一底盘,所述底盘沿保护罩的圆周方向与五个转叶碟相连,在每个转叶碟上分别设有一磨盘,每个磨盘均呈梅花状。

2.根据权利要求1所述的一种环氧地坪研磨机打磨抛光装置,其特征在于:在保护罩和底盘之间还设有找平器。

3.根据权利要求1所述的一种环氧地坪研磨机打磨抛光装置,其特征在于:所述底盘上开设鼓状孔,所述转叶碟分别通过与鼓状孔相配合的定位销和螺钉安装在底盘上。

4.根据权利要求3所述的一种环氧地坪研磨机打磨抛光装置,其特征在于:在靠近底盘一侧的定位销上分别设有磁铁垫圈。

5.根据权利要求4所述的一种环氧地坪研磨机打磨抛光装置,其特征在于:在底盘上设有与磁铁垫圈相配合的磁铁。

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