[实用新型]一种用于新型研磨设备驱动结构有效
申请号: | 202021392206.0 | 申请日: | 2020-07-15 |
公开(公告)号: | CN213731162U | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 滕祥飞 | 申请(专利权)人: | 惠晶显示科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | B24B47/16 | 分类号: | B24B47/16;B24B47/12;B24B37/10 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 刘宁 |
地址: | 215000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 新型 研磨 设备 驱动 结构 | ||
本实用新型涉及研磨设备技术领域,尤其是一种用于新型研磨设备驱动结构,包括设备主体,设备主体的顶部安装有X轴驱动机构,X轴驱动机构包括导向座,导向座固定安装在设备主体的顶部,导向座内侧开设有滑槽,滑槽内滑动安装有滑动座,滑动座内壁的上下两端均固定安装有齿条,滑动座的中部安装有半齿轮,半齿轮通过轴承与设备主体转动连接,两个齿条均可与半齿轮啮合;滑动座的顶部安装有Y轴驱动机构,Y轴驱动机构包括伸缩气缸、安装座和上定盘。本实用新型可以大幅提升研磨垫的使用寿命,并且大幅降低维护人员困难度和疲劳度。
技术领域
本实用新型涉及研磨设备技术领域,尤其涉及一种用于新型研磨设备驱动结构。
背景技术
当前平面研磨设备应用越来越广泛,例如素板玻璃bare glass,FPD玻璃基板,液晶玻璃TFT-LCD蚀刻前后的表面研磨。目前针对研磨机主流采用摇动式结构,其主要运行轨迹理在于平行slide滑动方式(平行滑动导轨),或者弧形摇动方式Oscartype两种;
基于现有的运动轨迹,抛光垫呈现特定的盘型变化,随着研磨产品数量增加,其运动轨迹对应的下抛光垫高度发生变化,抛光精度随之下降,需进行手动盘型修复,或者进行机构参数进行调整来解决此问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在抛光精度会随着抛光垫的高度升高而下降的缺点,而提出的一种用于新型研磨设备驱动结构。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
设计一种用于新型研磨设备驱动结构,包括设备主体,所述设备主体的顶部安装有X轴驱动机构,所述X轴驱动机构包括导向座,所述导向座固定安装在设备主体的顶部,所述导向座内侧开设有滑槽,所述滑槽内滑动安装有滑动座,所述滑动座内壁的上下两端均固定安装有齿条,所述滑动座的中部安装有半齿轮,所述半齿轮通过轴承与设备主体转动连接,两个所述齿条均可与半齿轮啮合;
所述滑动座的顶部安装有Y轴驱动机构,所述Y轴驱动机构包括伸缩气缸、安装座和上定盘,所述伸缩气缸固定安装在滑动座的顶部,所述伸缩气缸的输出端与安装座固定,所述上定盘固定安装在安装座的底部。
优选的,所述设备主体的外侧固定安装有驱动电机,所述驱动电机的输出轴与半齿轮的转轴固定。
优选的,所述设备主体的顶部固定安装有与半齿轮的转轴相对应的轴承座。
优选的,所述设备主体的一侧安装有设备外框,所述设备外框的顶部转动安装有相应的下抛盘,所述上定盘可在下抛盘表面滑动。
本实用新型提出的一种用于新型研磨设备驱动结构,有益效果在于:本实用新型可以使得上定盘在下抛盘表面的运动轨迹呈W形轨迹,取决于驱动电机或者伸缩气缸的动作频率,可由实际情况进行设定;这种设计结构和运动轨迹,可以大幅提升研磨垫的使用寿命,并且大幅降低维护人员困难度和疲劳度。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种用于新型研磨设备驱动结构的结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种用于新型研磨设备驱动结构的部分结构示意图一;
图3为本实用新型提出的一种用于新型研磨设备驱动结构的部分结构示意图二;
图4为本实用新型提出的一种用于新型研磨设备驱动结构的上定盘在下抛盘表面的运动轨迹图。
图中:设备主体1、X轴驱动机构2、导向座21、滑槽22、滑动座23、齿条24、半齿轮25、Y轴驱动机构3、伸缩气缸31、安装座32、上定盘33、设备外框4、下抛盘5、轴承座6、驱动电机7。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
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