[实用新型]一种液体循环处理槽及液体循环处理系统有效
申请号: | 202021395583.X | 申请日: | 2020-07-15 |
公开(公告)号: | CN212380395U | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 张淋;梁先东 | 申请(专利权)人: | 苏州宝馨科技实业股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;贾允 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 液体 循环 处理 系统 | ||
本实用新型涉及液体处理技术领域,本实用新型公开了一种液体循环处理槽及液体循环处理系统,具体公开了一种液体循环处理槽,其包括主腔槽、副腔槽、泵浦吸液管和进液管;主腔槽设于副腔槽内,且主腔槽的底板与副腔槽的第一底板存在第一预设高度;主腔槽内设有进液管;该主腔槽的侧面设有溢流孔,能够使主腔槽与副腔槽连通;副腔槽内的一侧设有该泵浦吸液管的第一端口;第一端口与该第一底板的距离大于等于第一预设高度;泵浦吸液管的第二端口与进液管连通,泵浦吸液管用于吸入副腔槽的液体,进而液体通过进液管流回主腔槽。本实用新型提供的液体循环处理槽具有降低液体中有害物质的含量,提高产品的质量的特点。
技术领域
本实用新型涉及液体处理技术领域,特别涉及一种液体循环处理槽及液体循环处理系统。
背景技术
随着化工行业的发展,其在器件制造过程中的作用也越来越重要,例如太阳能电池、硅片以及印刷线路板的制造过程,常涉及多步清洁、反应或者刻蚀等步骤,不论是清洁、反应还是刻蚀一般都是置于特定液体循环处理系统的槽中进行的。
目前,人们对于节能环保能源的需要越来越大,促进了太阳能电池的发展,然而太阳能电池生产工艺复杂,尤其是化学反应步骤,直接关系到电池的性能,故而其对药液槽中的液体要求也较高。
一般,是将太阳能硅片置于药液槽中,通过直接循环药液中的液体,使得药水与硅片接触,不断反应,反应完后直接将混合液体排出,进而完成反应。
然而由于反应过程中,药水与硅片发生了化学反应,会产生各种产物,尤其是粘性物质时,该物质在反应液中大量存留,进而影响硅片表面处理效果,如果通过增加添加剂的方式改善,会造成成本增加。
实用新型内容
本实用新型要解决的是现有技术中在液体循环槽处理产品过程中,产生的有害物质的含量过大进而影响产品质量,尤其是反应粘性物质影响硅片表面处理效果的技术问题。
为解决上述技术问题,本申请在一方面公开了一种液体循环处理槽,其包括主腔槽、副腔槽、泵浦吸液管和进液管;
该主腔槽设于该副腔槽内,且该主腔槽的底板与该副腔槽的第一底板存在第一预设高度;
该主腔槽内设有进液管;
该主腔槽的侧面设有溢流孔,能够使该主腔槽与该副腔槽连通;
该副腔槽内的一侧设有该泵浦吸液管的第一端口;
该第一端口与该第一底板的距离大于等于该第一预设高度;
该泵浦吸液管的第二端口与该进液管连通,该泵浦吸液管用于吸入该副腔槽的液体,进而该液体通过该进液管流回该主腔槽。
可选地,还包括阻流件;
该阻流件设于该第一底板上;
且该阻流件的顶部与该主腔槽的底板连接;
该阻流件上设有通孔。
可选地,该通孔位于该阻流件的边上。
可选地,还包括泵浦;
该泵浦分别与该进液管和该泵浦吸液管的第二端口连接。
可选地,该主腔槽的底板上设有过流孔;
该过流孔的面积小于该第一端口的口径面积。
可选地,还包括排液管和排液阀;
该排液管上设有该排液阀;
该排液管的端口位于该副腔槽内。
可选地,该副腔槽包括靠近该排液管的第一侧板;
该第一底板与该第一侧板存在第一夹角;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造