[实用新型]一种满足大尺寸硅片的烧结炉

权利要求书

1.一种满足大尺寸硅片的烧结炉，包括炉体(1)，其特征在于，所述炉体(1)的左右两侧均开设有开口(2)，所述开口(2)的内部设置有网带输送机(3)，所述炉体(1)内壁的前后两侧均固定连接有红外加热灯管(4)，所述红外加热灯管(4)位于网带输送机(3)的上下两侧；

所述炉体(1)的底部固定连接有支撑柱(5)，所述炉体(1)的底部开设有气孔(6)，所述气孔(6)的内壁固定连通有进气管(7)，所述进气管(7)的表面固定连通有导气板(8)，所述导气板(8)的上表面开设有导气槽(9)，所述进气管(7)的顶部位于导气槽(9)的内部；

所述导气槽(9)内壁的底部开设有通孔(10)，所述导气槽(9)的内壁和进气管(7)的表面均滑动连接有密封机构(11)，所述导气板(8)的上表面固定连接有分流板(12)，所述分流板(12)的内壁与密封机构(11)的表面接触。

2.根据权利要求1所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述密封机构(11)包括滑板(111)，所述滑板(111)的表面与导气槽(9)的内壁接触，所述滑板(111)的内壁与进气管(7)的表面接触，所述滑板(111)的上表面固定连接有密封柱(112)，所述密封柱(112)的表面分流板(12)的内壁接触，所述滑板(111)的底部固定连接有弹簧(113)。

3.根据权利要求2所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述分流板(12)包括盖板(121)，所述盖板(121)的上表面开设有分流孔(122)，所述分流孔(122)的内壁固定连接有分流管(123)，所述分流管(123)的内壁与密封柱(112)的表面接触。

4.根据权利要求1所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述导气板(8)的数量为两个，且两个导气板(8)在炉体(1)的内部呈等距离分布。

5.根据权利要求1所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述炉体(1)的左右两侧均固定连接有内螺纹块(13)，所述内螺纹块(13)位于开口(2)的上方，所述内螺纹块(13)的内壁螺纹连接有螺纹柱(14)，所述螺纹柱(14)的表面固定连接有轴承(15)，所述轴承(15)位于内螺纹块(13)的下方，所述轴承(15)的底部固定连接有L形密封板(16)，所述L形密封板(16)的表面与炉体(1)的表面接触。

6.根据权利要求3所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述滑板(111)与盖板(121)之间最大距离大于密封柱(112)的高度。