[实用新型]一种等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，所述等离子体处理装置包括至少一个反应腔，所述反应腔内设置用于支撑基片的基座，一气体供应装置用于向所述反应腔内输送工艺气体，其特征在于，

所述气体供应装置包含一气体总管道和对所述气体总管道进行气体分流的多路气体分流输送管路，所述气体总管道上设置一前端压力传感器，用于监测所述气体总管道的压力；

每路气体分流输送管路上分别设置一流量控制阀和一后端压力传感器，所述后端压力传感器用于监测该路气体分流输送管路上所述流量控制阀输出端的压力，所述流量控制阀通过调节自身阀开度控制该路分流输送管路上的气体流量，并保证前端压力传感器测得的压力值大于或等于任一后端压力传感器测得的压力值的两倍。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述气体供应装置包含N路气体分流输送管路，N≥2，所述N路气体分流输送管路上分配的目标气体流量相同或不相同。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述流量控制阀通过电信号控制所述自身阀开度，包括压电阀或电磁阀或针阀。

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述流量控制阀的阀开度与施加到该流量控制阀上的电压信号呈线性关系。

5.如权利要求1～4中任意一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述流量控制阀与一控制驱动器相连，所述控制驱动器通过调节施加到所述流量控制阀上的电信号实现对所述阀开度的调节。

6.如权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述控制驱动器与一个或多个流量控制阀相连接。

7.如权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述控制驱动器与一总控制器连接，所述总控制器设定所述气体总管道输入的总流量和各路气体分流输送管路的目标气体流量的比例关系，各路气体分流输送管路的目标气体流量的总和等于所述总流量。

8.如权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述总控制器为计算机。

9.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述气体总管道流通的气体是混合气体，所述混合气体是由两路以上的工艺气体通过质量流量控制器输入到所述气体总管道形成。

10.如权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述多路气体分流输送管路上分配的目标气体流量不相同时，所述前端压力传感器的数值大于或等于2倍的最大目标气体流量所在的气体分流输送管路上的后端压力传感器的数值。

11.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述等离子体处理装置包括一个反应腔，所述多路分流输送管路上输送到所述反应腔的不同区域。

12.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述等离子体处理装置包括多个反应腔，所述多路分流输送管路上输送到多个反应腔的相同或不同区域。

13.如权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述前端压力传感器的数值小于或等于3倍的最大目标气体流量所在的气体分流输送管路上的后端压力传感器的数值。