[实用新型]陶瓷杯自动上釉擦釉设备

说明书

一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，包括用以传送陶瓷杯的第一传送带、釉池、用以接走陶瓷杯的第二传送带，还设有转台、升降台和基座，转台安装在升降台上，转台设有竖向转轴，升降台还安装有驱动转台绕竖向转轴水平自转的转台驱动机构；还设有擦釉机构;所述第一传送带布置在升降台的前侧方，所述釉池布置在升降台的左侧方，所述擦釉机构布置在升降台的后侧方，所述第二传送带布置在升降台的右侧方；转台的四个侧面边缘分别安装有一套用以吸附陶瓷杯的吸附机构。本实用新型能自动将陶瓷杯自动上釉，并且将陶瓷杯杯底外边沿部位的釉料擦除。

技术领域

本实用新型属于陶瓷制品施釉设备的技术领域，尤其涉及一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备。

背景技术

陶瓷杯包括杯壁和杯底，杯底的外表面呈中间高而四周边沿低的上凹结构，杯壁与杯底两者的圆形交界线部位（即杯底外边沿）最低。陶瓷杯在生产过程中，必须对陶瓷杯表面形成一层釉料，俗称上釉，上釉之后送入窑炉进行烧结。烧结时，陶瓷杯搁置在硅板上面。为了避免烧结过程中，杯底部位的釉料与硅板黏连在一起，必须将杯底外边沿部位的釉料擦除后才入窑烧结，这个工序俗称擦釉。

目前对于陶瓷杯生产过程中的上釉工序和擦釉工序多采用人工方式进行，人工成本高，而且生产效率较低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述缺点而提供一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，它能自动将陶瓷杯自动上釉，并且将陶瓷杯杯底外边沿部位的釉料擦除。

其目的可以按以下方案实现：一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，包括用以传送陶瓷杯的第一传送带、釉池、用以接走陶瓷杯的第二传送带，其主要特点在于，还设有转台、升降台和基座，升降台能竖向移动地安装在基座上，基座上还设有驱动升降台升降的气缸；转台安装在升降台上，转台设有竖向转轴，升降台还安装有驱动转台绕竖向转轴水平自转的转台驱动机构；还设有擦釉机构;所述第一传送带布置在升降台的前侧方，所述釉池布置在升降台的左侧方，所述擦釉机构布置在升降台的后侧方，所述第二传送带布置在升降台的右侧方；

第一传送带的后端上方设有固定不动的定位挡块，定位挡块形成有V字形叉口, V字形叉口的开口朝向前方；所述擦釉机构包括有循环转动的环形皮带，环形皮带的两端套设有传动轴，环形皮带的外层设有海绵层，该海绵层随同环形皮带循环转动；环形皮带上方设有用以冲洗釉料的喷水管，环形皮带下方设有集水槽；在传动轴旁边还设有挤压辊，挤压辊与传动轴紧靠在一起；

转台的四个侧面边缘分别安装有一套用以吸附陶瓷杯的吸附机构，四套吸附机构关于转台的中心呈旋转对称布置，每相邻两套吸附机构相对于转台的竖向转轴所在的方位错开90度；每套吸附机构包括摆动支架、空心金属杆、吸盘，每个摆动支架利用一根水平铰接轴与转台形成铰接； 还设有驱动摆动支架绕对应的水平铰接轴摆动的摆动支架驱动机构；空心金属杆安装在摆动支架的摆动端，吸盘安装在空心金属杆的下端；所述转台里面还设有负压部件，空心金属杆的上端通过吸气管连接到负压部件；

当任意一套吸附机构随同转台转动到升降台前侧时，该套吸附机构对应的水平铰接轴的延伸方向为水平横向；

当任意一套吸附机构随同转台转动到升降台前侧、且该套吸附机构的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构的吸盘位于第一传送带的定位挡块的V字形叉口的正上方；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台左侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述釉池的水平投影位置范围内；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台后侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述擦釉机构的环形皮带的正上方；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台右侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述第二传送带的正上方。