[实用新型]高屏蔽性电磁波屏蔽膜有效

专利信息
申请号: 202021439640.X 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN213152758U 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 黄松建;张裕洋;刘修铭 申请(专利权)人: 位元奈米科技股份有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 张燕华
地址: 中国台湾桃园市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 屏蔽 电磁波
【权利要求书】:

1.一种高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该电磁波屏蔽膜包括:

一第一离型膜﹔

一绝缘层,设于该第一离型膜的一侧表面上﹔

一复合金属层,设于该绝缘层的一侧表面上﹔

一导电粘着层,设于该复合金属层的一侧表面上﹔及

一第二离型膜,设于该导电粘着层的一侧表面上。

2.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该第一离型膜及该第二离型膜为聚乙烯对苯二甲酸酯含氟离型膜、聚乙烯对苯二甲酸酯含硅油离型膜、聚乙烯对苯二甲酸酯亚光离型膜或聚乙烯离型膜。

3.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该第一离型膜及该第二离型膜厚度为25μm-100μm。

4.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该第一离型膜及该第二离型膜为离型纸。

5.如权利要求4所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该离型纸的厚度为25μm-100μm。

6.如权利要求4所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该离型纸为聚乙烯淋膜纸。

7.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该第一离型膜及该第二离型膜为低粘着载体膜,该低粘着载体膜的离型力为5g/5cm至500g/5cm。

8.如权利要求7所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该低粘着载体膜的厚度为25μm-100μm。

9.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该绝缘层为聚酰亚胺材料。

10.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该绝缘层硬度为HB-5H。

11.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该复合金属层由多层不同材质的金属层重复堆叠而成。

12.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该复合金属层包括一设于该绝缘层一侧表面上的铜层及一设于该铜层一侧表面上的银层。

13.如权利要求12所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该铜层厚度为0.1μm-0.2μm。

14.如权利要求12所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该银层厚度为0.1μm-0.2μm。

15.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该复合金属层的厚度为0.01μm-1μm。

16.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该导电粘着层由具有多个导电粒子的树脂组成物组成,该些导电粒子露出于该导电粘着层表面,增加该复合金属层与元件的接触。

17.如权利要求16所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该元件为柔性印刷电路板。

18.如权利要求1所述的高屏蔽性电磁波屏蔽膜,其特征在于,该电磁波屏蔽膜移除该第一离型膜及该第二离型膜后的厚度为2μm-10μm。

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