[实用新型]一种便于电晕处理的印染膜片有效

专利信息
申请号: 202021441000.2 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN213322136U 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 黄兴兰;李书昊 申请(专利权)人: 李书昊
主分类号: B32B27/32 分类号: B32B27/32;B32B27/06;B32B27/12;B32B5/02;B32B33/00;B32B3/30;B32B3/24;B32B3/08;B41M5/00
代理公司: 广州人才汇进知识产权代理事务所(普通合伙) 44763 代理人: 袁翔
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 便于 电晕 处理 印染 膜片
【说明书】:

本实用新型公开了一种便于电晕处理的印染膜片,涉及印刷技术领域,包括印染膜本体,所述印染膜本体包括中间层、底层、顶层,所述底层设置在中间层的底部,所述顶层设置在中间层的顶部,所述中间层包括基膜、上连接层、下连接层,所述上连接层设置在基膜的顶部,所述下连接层设置在基膜的底部。本实用新型便于电晕处理的印染膜片,能够较为精准的保证电晕质量,从而提高了电晕的处理效果,保证了表面附着力,从而提高了印染质量,能够保证喷涂的油墨溢出,能够保证油墨层的高度不高于印染膜本体的表面,从而保证油墨层不被磨损。

技术领域

本实用新型涉及印刷技术领域,具体为一种便于电晕处理的印染膜片。

背景技术

印染膜片,主要用于数码印刷设备的原料,通过数码印刷设备进行印刷作业形成印染有图案的印刷产品,也就是膜片表层印刷有图案,能够用于销售的产品膜片,为了使得印染膜片表面的附着力更好,让油墨在印染膜片上的印染更加稳定,通常印染膜片在进入数码印刷设备中会经过电晕处理,从而达到印染膜片的表面附着力更佳的目的。

但是在实际的处理过程中,初始的印染膜片较为光滑,当电晕处理不够充分时,很难保证印染膜片的表面附着力,易影响印染膜片的印刷质量,且印染膜片在使用过程中,有油墨层通常高于印染膜片的表面层,在长时间的使用下易导致印染膜片上的油墨层被磨掉,从而影响印染膜片的使用效果。

因此,发明一种便于电晕处理的印染膜片来解决上述问题很有必要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种便于电晕处理的印染膜片,以解决上述背景技术中提出现有的便于电晕处理的印染膜片处理不够充分和易导致油墨层磨损的问题。

为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种便于电晕处理的印染膜片,包括印染膜本体,所述印染膜本体包括中间层、底层、顶层,所述底层设置在中间层的底部,所述顶层设置在中间层的顶部,所述中间层包括基膜、上连接层、下连接层,所述上连接层设置在基膜的顶部,所述下连接层设置在基膜的底部,所述顶层包括防潮层、防渗层、电晕层、上保护层,所述防渗层设置在防潮层的顶部,所述电晕层设置在防渗层的顶部,所述上保护层设置在电晕层的顶部,所述电晕层的上表面开设有印染槽,所述上保护层的顶部开设有电晕孔。

可选的,所述底层包括硬化层、下保护层,所述硬化层设置在下保护层的顶部。

可选的,所述电晕孔的数量有多个,多个所述电晕孔呈等距离排列,所述电晕孔与印染槽相对应。

可选的,所述印染槽的内部设置有油墨层,所述印染槽的内顶部两侧均设置有挡角。

可选的,所述电晕层由双向拉伸聚丙烯树脂材料制成,所述上连接层和下连接层均为硅系粘合剂。

可选的,所述上连接层设置在防潮层的底部,所述下连接层设置在硬化层的顶部。

可选的,所述上保护层和下保护层均由无纺布材料制成,所述上保护层和下保护层的厚度均为5μm。

本实用新型的技术效果和优点:

1、本实用新型,通过电晕孔与印染槽之间的配合设置,能够较为精准的保证电晕质量,从而提高了电晕的处理效果,保证了表面附着力,从而提高了印染质量,解决了处理不够充分的问题。

2、本实用新型,通过设有挡角,能够保证喷涂的油墨溢出,通过设置有印染槽,能够保证油墨层的高度不高于印染膜本体的表面,从而保证油墨层不被磨损,影响印染膜本体的使用效果,解决了易导致油墨层磨损的问题。

附图说明

图1为本实用新型印染膜本体结构的立体示意图;

图2为本实用新型印染膜本体结构的整体示意图;

图3为本实用新型印染膜本体结构的剖面示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于李书昊,未经李书昊许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021441000.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top