[实用新型]一种氢气分离提纯膜

权利要求书

1.一种氢气分离提纯膜，其特征在于，包括自上而下依次层叠设置的氢解离层、氢扩散层和氢重组层，所述氢扩散层为基底层，所述氢解离层和氢重组层均为碳化钼薄膜。

2.根据权利要求1所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述碳化钼薄膜为晶态碳化钼薄膜。

3.根据权利要求1所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述氢解离层的厚度为5-500nm。

4.根据权利要求1所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述氢扩散层的厚度为20-20000μm。

5.根据权利要求1所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述氢重组层的厚度为5-500nm。

6.根据权利要求1所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述基底层为金属层、金属合金层或非金属陶瓷层。

7.根据权利要求6所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述金属层为钒金属层、铌金属层、钽金属层、钼金属层、镍金属层、钛金属层、钯金属层、铂金属层或多孔不锈钢金属层。

8.根据权利要求6所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述金属合金层为钒镍合金层、钒铬合金层、钒铜合金层、钒铁合金层、钒铝合金层、钒钴合金层、钒钼合金层、钒钨合金层、钒钛镍合金层、钒铁铝合金层、钒钼钨合金层、铌钛镍合金层、铌钛钴合金层、铌钼钨合金层或高熵渗氢合金层。

9.根据权利要求6所述的氢气分离提纯膜，其特征在于，所述非金属陶瓷层为多孔氧化铝陶瓷层、多孔氧化锆陶瓷层或沸石层。