[实用新型]一种用于高速传输的滤光片及光模块有效
| 申请号： | 202021481239.2 | 申请日： | 2020-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN212515112U | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 王鹏飞 | 申请（专利权）人： | 奥普镀膜技术(广州)有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B1/115;G02B5/20;G02B6/293 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 张金福 |
| 地址： | 510700 广东省广州市黄*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 高速 传输 滤光 模块 | ||
1.一种用于高速传输的滤光片，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板一侧面镀设有增透膜，所述玻璃基板另一侧面镀设有高反膜；所述增透膜与高反膜的材料相同，膜层结构相同设置。
2.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于：所述高反膜由高折射率介质层及低折射率介质层依次交替堆积组成；所述高反膜的层数大于或等于349层，其中，所述高折射率介质层作为高反膜第1膜层。
3.根据权利要求2所述的滤光片，其特征在于：所述高折射率介质层由Ta2O5材料制成。
4.根据权利要求3所述的滤光片，其特征在于：所述低折射率介质层由SiO2材料制成。
5.根据权利要求4所述的滤光片，其特征在于：所述高反膜的层数为349层，其中各膜层厚度如下：
第10层SiO2低折射率介质层厚度为534.46nm；
第23层Ta2O5高折射率介质层厚度为60.41nm；
第24层SiO2低折射率介质层厚度为90.11nm；
第25层Ta2O5高折射率介质层厚度为60.41nm；
第34层SiO2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
第43层Ta2O5高折射率介质层厚度为54.06nm；
第44层SiO2低折射率介质层厚度为107.8nm；
第45层Ta2O5高折射率介质层厚度为54.06nm；
第60层SiO2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
第96层SiO2低折射率介质层厚度为20.02nm；
第97层Ta2O5高折射率介质层厚度为86.15nm；
第188层SiO2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
第240层SiO2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
第342层SiO2低折射率介质层厚度为534.46nm；
其余Ta2O5高折射率介质层厚度为187.2nm，SiO2低折射率介质层厚度为267.23nm。
6.根据权利要求5所述的滤光片，其特征在于：所述增透膜的层数为4层。
7.根据权利要求6所述的滤光片，其特征在于：所述增透膜由上至下设置的各膜层的厚度为：Ta2O5高折射率介质层36.6nm；SiO2低折射率介质层185.5nm；Ta2O5高折射率介质层165nm；SiO2低折射率介质层187nm。
8.根据权利要求6所述的滤光片，其特征在于：所述增透膜另一侧面镀设有能量增强膜。
9.根据权利要求1～8任一项所述的滤光片，其特征在于：所述滤光片的尺寸为1.9mm×1.9mm。
10.一种用于高速传输的光模块，其特征在于，包括如权利要求1～9任一项所述的用于高速传输的滤光片。
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