[实用新型]一种引线框架的激光曝光设备

说明书

一种引线框架的激光曝光设备，属于引线框架生产设备技术领域。其特征在于：包括输入辊（3）、收卷辊（5）、光学引擎（2）以及平移装置，输入辊（3）和收卷辊（5）分别设置在光学引擎（2）的两侧，光学引擎（2）有对称设置在引线框架（9）两侧的两组，平移装置同时与两组光学引擎（2）相连，在输入辊（3）与光学引擎（2）之间以及收卷辊（5）与光学引擎（2）之间均设置有张力辊（7）。本引线框架的激光曝光设备的输入辊和收卷辊均与张力辊相配合，对引线框架进行张紧，使引线框架不需要承托即可保持水平，避免托板上的杂物对引线框架下侧的曝光造成妨碍，保证引线框架的两侧曝光准确度高，进而提高了引线框架的合格率。

技术领域

一种引线框架的激光曝光设备，属于引线框架生产设备技术领域。

背景技术

引线框架是半导体封装的基础材料，是集成线路芯片的载体，生产引线框架的主要材料是铜合金，主要通过冲压的方式生产，冲压完成后需要对引线框架进行蚀刻，以实现高密度和多脚数引线框架的生产。

蚀刻工艺的基本原理是利用化学感光材料的光敏特性，在铜带上形成抗蚀刻掩膜，通过腐蚀溶液蚀刻掉部分金属，得到所需的产品。掩膜分为干膜和湿膜，干膜在使用时通常是通过压膜机压在铜带上。

在对铜带进行蚀刻前，需要在引线框架的干膜上进行曝光，以方便腐蚀液在引线框架上腐蚀出所需要的线路。但是现有的曝光设备都需要通过透明托板对铜带进行承托，以保证铜带水平，进而保证了光学引擎的曝光精度。但是由于托板很容易粘附杂物，且在通电与托板的相对运动过程中会对托板造成摩擦，影响光学引擎对铜带的曝光，进而导致蚀刻出的线路与设计的线路不符，产品的合格率较低。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种能够对引线框架张紧，避免对引线框架的曝光造成影响的引线框架的激光曝光设备。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：该引线框架的激光曝光设备，其特征在于：包括输入辊、收卷辊、光学引擎以及平移装置，输入辊和收卷辊分别设置在光学引擎的两侧，光学引擎有对称设置在引线框架两侧的两组，平移装置同时与两组光学引擎相连，在输入辊与光学引擎之间以及收卷辊与光学引擎之间均设置有张力辊。

优选的，每组光学引擎均包括并排设置的多个。每组光学引擎均并排设置有多个，曝光速度快。

优选的，每根所述的张力辊与光学引擎之间均设置有托辊。托辊能够对引线框架进行承托，使引线框架位于两组光学引擎的中部。

优选的，所述的输入辊与光学引擎之间设置有干膜除尘辊，干膜除尘辊外设置有除尘纸卷。干膜除尘纸能够除去引线框架表面的杂物，避免对引线框架的曝光造成妨碍。

优选的，所述的输入辊和收卷辊与对应侧的张力辊之间均设置有导向辊以及过渡辊，且过渡辊设置在对应侧的导向辊和张力辊之间，过渡辊位于对应侧的导向辊和张力辊的下侧。导向辊与对应侧的过渡辊相配合，保证引线框架张紧，进而保证了两组光学引擎之间的引线框架水平。

优选的，所述的收卷辊与对应侧的过渡辊之间的导向辊并排设置有两个。

与现有技术相比，本实用新型所具有的有益效果是：

本引线框架的激光曝光设备的输入辊和收卷辊均与张力辊相配合，对引线框架进行张紧，使引线框架不需要承托即可保持水平，避免托板上的杂物对引线框架下侧的曝光造成妨碍，保证引线框架的两侧曝光准确度高，进而提高了引线框架的合格率。光学引擎有对称设置在引线框架两侧的两组，从而能够同时对引线框架的两侧进行曝光，曝光速度快，平移装置同时与两组光学引擎相连，并带动其同步移动，通过对光学引擎的控制，可以实现引线框架两侧不同线路的曝光。

附图说明

图1为引线框架的激光曝光设备的结构示意图。

图2为压膜装置的结构示意图。