[实用新型]一种抛光垫

说明书

本实用新型公开了一种抛光垫，本实用新型涉及抛光垫技术领域，包括抛光垫本体，所述抛光垫本体的顶部开设有凹槽，所述抛光垫本体的外壁安装有安装块，且安装块的一端顶部安装有凸块，所述安装块的一侧安装有遮挡组件，所述遮挡组件包括外挡圈，且外挡圈的顶部开设有排污槽，且排污槽的底部一侧开设有排污孔，所述抛光垫本体的顶部靠近凹槽的一侧开设有圆孔，且圆孔呈矩形阵列分布在抛光垫本体的顶部，本实用新型通过在抛光垫本体外部安装外挡圈，便于将飞溅出来的研磨液集中回收，再对研磨液进行回收处理，通过在抛光垫本体的顶部开设有圆孔，保证研磨效果，解决了研磨液流失快的问题。

技术领域

本实用新型属于抛光垫技术领域，具体涉及一种抛光垫。

背景技术

抛光垫是化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料，按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫，按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫，按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型，抛光垫的设计制造以沟槽纹路为其关键，沟槽纹路的作用主要包括承载研磨液、传输研磨副产品和研磨碎片以及作为散发热量的通道，现有的抛光垫在使用时，仍存在不足之处，研磨头在抛光垫上转动，研磨液易飞溅到外部，且研磨头高速转动情况下，研磨液流失快，需要频繁添加研磨液。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种抛光垫，以解决上述背景技术中提出的研磨液易飞溅到外部，且研磨液流失快的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种抛光垫，包括抛光垫本体，所述抛光垫本体的顶部开设有凹槽，所述抛光垫本体的外壁安装有安装块，且安装块的一端顶部安装有凸块，所述安装块的一侧安装有遮挡组件，所述遮挡组件包括外挡圈，且外挡圈的顶部开设有排污槽，且排污槽的底部一侧开设有排污孔，所述排污槽的底部对称开设有两个安装孔。

优选的，所述抛光垫本体的顶部靠近凹槽的一侧开设有圆孔，所述圆孔至少设置有十个，且圆孔呈矩形阵列分布在抛光垫本体的顶部。

优选的，所述安装孔为圆弧形结构，所述凸块为圆弧形结构，所述凸块卡合在安装孔内。

优选的，所述抛光垫本体的底部设置有割痕，所述割痕为圆形结构。

优选的，所述外挡圈的内径与抛光垫本体的外径相同，所述外挡圈的高度大于抛光垫本体的高度。

优选的，所述圆孔的深度小于凹槽的深度。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型通过在抛光垫本体外部安装外挡圈，有利于遮挡飞溅出来的研磨液，保证研磨液不会污染工作台，便于将飞溅出来的研磨液集中回收，再对研磨液进行回收处理，不会浪费研磨液。

（2）本实用新型通过在抛光垫本体的顶部开设有圆孔，研磨液在抛光垫上流动的过程中，会流入圆孔内，保证了研磨液不会大量的流动至抛光垫的外部，有利于提高研磨液的研磨效率，保证研磨效果，解决了研磨液流失快的问题。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型抛光垫本体的结构示意图；

图3为本实用新型抛光垫本体的后视图；

图4为本实用新型安装块的侧视图；

图5为本实用新型外挡圈的后视图；

图中：1-外挡圈；2-凸块；3-排污槽；4-排污孔；5-凹槽；6-抛光垫本体；7-圆孔；8-安装块；9-割痕；10-安装孔。

具体实施方式