[实用新型]一种用于5G光通信的滤光片、5G光通信模块

权利要求书

1.一种用于5G光通信的滤光片，其特征在于：包括玻璃基板(G)，在玻璃基板(G)的一面设有高反膜(2)，在玻璃基板(G)的另一面设有增透膜(3)，所述的高反膜(2)由一层高反射介质(H)和一层低反射介质(L)作为一个循环周期进行N次循环堆积而成，其中N正整数，所述的增透膜(3)由一层高反射介质和一层低反射介质作为一个循环周期进行M次循环堆积而成，其中M为正整数。

2.根据权利要求1所述的用于5G光通信的滤光片，其特征在于：所述的N为40，即所述的高反膜(2)由一层高反射介质(H)和一层低反射介质(L)作为一个循环周期进行40次循环堆积而成。

3.根据权利要求1所述的用于5G光通信的滤光片，其特征在于：所述的M为2，即所述的增透膜(3)由一层高反射介质(H)和一层低反射介质(L)作为一个周期进行2次循环堆积而成。

4.根据权利要求2或3任一项所述的用于5G光通信的滤光片，其特征在于：所述的高反射介质(H)采用五氧化二钽制作而成。

5.根据权利要求4所述的用于5G光通信的滤光片，其特征在于：所述的低反射介质(L)采用二氧化硅制作而成。

6.根据权利要求5所述的用于5G光通信的滤光片，其特征在于：所述的高反膜采用非规整结构，即所述的高反膜(2)在不同的循环周期内设置的高反射介质(H)的厚度、低反射介质(L)的厚度不相同。

7.根据权利要求6所述的用于5G光通信的滤光片，其特征在于：所述的高反膜(2)在不同的循环周期内设置的高反射介质(H)的厚度、低反射介质(L)的厚度，具体如下：

第1循环周期的五氧化二钽的厚度为151.34nm，二氧化硅的厚度为221.63nm；

第2循环周期的五氧化二钽的厚度为127.26nm，二氧化硅的厚度为176.39nm；

第3循环周期的五氧化二钽的厚度为126.03nm，二氧化硅的厚度为218.5nm；

第4循环周期的五氧化二钽的厚度为152.62nm，二氧化硅的厚度为235.58nm；

第5循环周期的五氧化二钽的厚度为150.66nm，二氧化硅的厚度为229.44nm；

第6循环周期的五氧化二钽的厚度为146.09nm，二氧化硅的厚度为221.41nm；

第7循环周期的五氧化二钽的厚度为140.26nm，二氧化硅的厚度为210.87nm；

第8循环周期的五氧化二钽的厚度为137.45nm，二氧化硅的厚度为215.87nm；

第9循环周期的五氧化二钽的厚度为145.39nm，二氧化硅的厚度为228.18nm；

第10循环周期的五氧化二钽的厚度为149.21nm，二氧化硅的厚度为230.23nm；

第11循环周期的五氧化二钽的厚度为148.08nm，二氧化硅的厚度为228.02nm；

第12循环周期的五氧化二钽的厚度为146.51nm，二氧化硅的厚度为224.02nm；

第13循环周期的五氧化二钽的厚度为143.71nm，二氧化硅的厚度为217.33nm；

第14循环周期的五氧化二钽的厚度为140.97nm，二氧化硅的厚度为216.97nm；

第15循环周期的五氧化二钽的厚度为144.17nm，二氧化硅的厚度为224.4nm；

第16循环周期的五氧化二钽的厚度为147.58nm，二氧化硅的厚度为227.91nm；

第17循环周期的五氧化二钽的厚度为147.84nm，二氧化硅的厚度为227.8nm；

第18循环周期的五氧化二钽的厚度为147.53nm，二氧化硅的厚度为226.24nm；

第19循环周期的五氧化二钽的厚度为146.44nm，二氧化硅的厚度为221.28nm；

第20循环周期的五氧化二钽的厚度为143.17nm，二氧化硅的厚度为216.46nm；

第21循环周期的五氧化二钽的厚度为142.69nm，二氧化硅的厚度为220.2nm；

第22循环周期的五氧化二钽的厚度为145.76nm，二氧化硅的厚度为225.44nm；

第23循环周期的五氧化二钽的厚度为147.2nm，二氧化硅的厚度为227.51nm；

第24循环周期的五氧化二钽的厚度为147.8nm，二氧化硅的厚度为228.19nm；

第25循环周期的五氧化二钽的厚度为148.07nm，二氧化硅的厚度为225.62nm；

第26循环周期的五氧化二钽的厚度为145.17nm，二氧化硅的厚度为218.09nm；

第27循环周期的五氧化二钽的厚度为141.19nm，二氧化硅的厚度为216.65nm；

第28循环周期的五氧化二钽的厚度为142.9nm，二氧化硅的厚度为222.68nm；

第29循环周期的五氧化二钽的厚度为145.77nm，二氧化硅的厚度为227.12nm；

第30循环周期的五氧化二钽的厚度为147.66nm，二氧化硅的厚度为230.02nm；

第31循环周期的五氧化二钽的厚度为149.53nm，二氧化硅的厚度为229.71nm；

第32循环周期的五氧化二钽的厚度为147.1nm，二氧化硅的厚度为218.5nm；

第33循环周期的五氧化二钽的厚度为138.51nm，二氧化硅的厚度为210.34nm；

第34循环周期的五氧化二钽的厚度为138.88nm，二氧化硅的厚度为218.8nm；

第35循环周期的五氧化二钽的厚度为144.52nm，二氧化硅的厚度为227.54nm；

第36循环周期的五氧化二钽的厚度为149.85nm，二氧化硅的厚度为235.9nm；

第37循环周期的五氧化二钽的厚度为154.88nm，二氧化硅的厚度为226.22nm；

第38循环周期的五氧化二钽的厚度为132.94nm，二氧化硅的厚度为181.01nm；

第39循环周期的五氧化二钽的厚度为124.07nm，二氧化硅的厚度为210.03nm；

第40循环周期的五氧化二钽的厚度为126.88nm，二氧化硅的厚度为46.01nm。