[实用新型]一种CVD用钼块研磨机

说明书

本实用新型涉及CVD加工技术领域，公开了一种CVD用钼块研磨机，包括单盘研磨机本体，研磨机本体上方设有四个旋转机构。本申请的有益效果为：1、钼块自转与研磨盘转动相结合，可以使钼块工作面被研磨的更加均匀，且能保证钼块工作面的平整度；2、一次可以同时研磨多个钼块，提高了钼块研磨加工效率；3、避免了研磨盘上局部受力导致不平整，减少了研磨机研磨盘停机修平时间，减少了停机等待时间，有效保证研磨盘的平整度和寿命。

技术领域

本实用新型涉及CVD加工技术领域，特别是涉及一种CVD用钼块研磨机。

背景技术

钼块是金刚石CVD(化学气相沉积)膜片沉积生长用的基体，其工作面的平整度影响CVD膜的质量。钼块通常为圆柱状，且其中一个平面为工作面，由于钼块只加工一个平面，因此通常用圆盘式单盘研磨机进行研磨，现有的研磨机在研磨钼块时，研磨盘在作圆周运动，依靠研磨盘上面的金刚石粉末研磨液将钼块研磨，研磨后的钼块出现相对于研磨盘平整，但是研磨盘经常会因长时间单边受力出现内高外低的现象，导致研磨出的钼块不能满足CVD生产质量控制需要。

实用新型内容

针对现有技术上存在的不足，本实用新型提供一种CVD用钼块研磨机。

为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：

一种CVD用钼块研磨机，包括单盘研磨机本体，所述单盘研磨机本体包括支架，支架上设置有水浴锅，水浴锅内设有研磨盘，水浴锅底部设有驱动电机，驱动电机输出轴通过密封轴承穿过水浴锅并且与研磨盘中心固定连接，所述水浴锅上部设有固定架，固定架底部与支架固定连接，固定架顶部为支撑板，支撑板位于研磨盘正上方且与研磨盘相平行，所述支撑板上中心对称设有四个通孔，通孔正对研磨盘，所述通孔内套设有一个法兰轴套，法兰轴套的法兰边与支撑板通过螺钉固定连接，法兰轴套内设有一个内径大于钼块外径的翻边转子套，转子套的翻边部位位于法兰轴套的法兰上表面，转子套翻边部位的周向侧边设有第一轮槽；所述驱动电机的输出轴上固定连接有延长轴，延长轴另一端贯穿支撑板中心并向支撑板上表面外延部分，延长轴外延部分设有多个第二轮槽，第一轮槽和第二轮槽之间通过传动带连接；所述转子套底端端面与研磨盘之间距离小于钼块高度的1/3。

优选的，转子套的翻边部位上表面设有与之同心的环形凹槽，所述法兰轴套上设有滚压机构，所述滚压机构包括紧固螺钉、垫块、支撑臂和滚轮，所述滚轮竖直设置于支撑臂的一端端部并且与该端部通过销轴转动连接；所述支撑臂的另一端设置于垫块上，紧固螺钉贯穿支撑臂和垫块并且使之与法兰轴套的法兰边固定连接，所述滚轮的底部压接于转子套翻边部位的环形凹槽内。

优选的，一个法兰轴套上设有两个滚压机构，两个滚压机构关于法兰轴套中心轴对称。

本实用新型的工作原理为：驱动电机输出轴上的延长轴通过传送带驱动转子套旋转。具体应用的时候，在每个转子套内放置一个钼块，使钼块垂直于研磨盘且底部水平放置于研磨盘上，使钼块周向侧边贴于转子套内壁，启动驱动电机，研磨盘和转子套均开始旋转，基于钼块的自重，转子套带动钼块在其内自转。

本申请的有益效果为：1、钼块自转与研磨盘转动相结合，可以使钼块工作面被研磨的更加均匀，且能保证钼块工作面的平整度；2、一次可以同时研磨多个钼块，提高了钼块研磨加工效率；3、避免了研磨盘上局部受力导致不平整，减少了研磨机研磨盘停机修平时间，减少了停机等待时间，有效保证研磨盘的平整度和寿命。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式来详细说明本实用新型。

图1为实施例1中CVD用钼块研磨机的结构示意图。

图2为图1的A-A视图。

图3为图2的B处局部放大图。

图4为实施例1中钼块放置状态示意图。

具体实施方式