[实用新型]一种用于制备63 有效
申请号: | 202021533361.X | 申请日: | 2020-07-29 |
公开(公告)号: | CN213203253U | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 刘明阳;高岩;王念;任春侠;谭小明;李翔;陈晨 | 申请(专利权)人: | 原子高科股份有限公司 |
主分类号: | C25D17/00 | 分类号: | C25D17/00;C25D17/02 |
代理公司: | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 田明;高凯 |
地址: | 102413 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 base sup 63 | ||
1.一种用于制备63Niβ源的电沉积装置,其特征在于,所述电沉积装置包括:
用于盛放沉积液体的电沉积槽槽体,所述电沉积槽槽体其顶端开口;
阳极丝,所述阳极丝安装在所述电沉积槽槽体内腔中;
底座,所述底座与所述电沉积槽槽体构成可拆卸密封相连;
阴极导出垫片;
电沉积源片;
橡胶垫片;
弹簧,所述橡胶垫片、电沉积源片和阴极导出垫片由上之下依次安装在所述底座内腔顶端处,其中所述弹簧设置在所述阴极导出垫片和底座内腔底端之间;
以及电沉积槽支架,所述电沉积槽支架包括设置其底端两侧的一对支架腿、支架垫片以及第一圆柱凹槽、第二圆柱凹槽和第三圆柱凹槽,所述支架垫片包括呈水平布置的导片部以及由所述导片部竖直向下延伸的铜柱,所述第一圆柱凹槽、第二圆柱凹槽以及第三圆柱凹槽由上至下设置在所述电沉积槽支架中心处,所述第一圆柱凹槽、第二圆柱凹槽和第三圆柱凹槽的直径依次缩小,其中所述底座安装在所述第一圆柱凹槽内,所述导片部布置在所述阴极导出垫片的上端,所述铜柱的底端位于所述第二圆柱凹槽内,所述弹簧布置在所述铜柱的外围。
2.根据权利要求1所述的一种用于制备63Niβ源的电沉积装置,其特征在于,所述电沉积槽槽体的底部对称设置有一对扇形卡扣,所述底座的上表面对称设置有一对扇形凹槽,其中所述电沉积槽槽体和底座之间通过一对所述扇形卡扣和扇形凹槽卡紧相连。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于制备63Niβ源的电沉积装置,其特征在于,所述电沉积槽槽体的内腔底部为斜面外形结构。
4.根据权利要求1所述的一种用于制备63Niβ源的电沉积装置,其特征在于,所述底座内腔底端面处还设置有固定圈,所述弹簧通过所述固定圈固定安装在所述底座内腔中。
5.根据权利要求1所述的一种用于制备63Niβ源的电沉积装置,其特征在于,所述电沉积槽槽体、底座和电沉积槽支架采用聚四氟乙烯材质制作而成。
6.根据权利要求1所述的一种用于制备63Niβ源的电沉积装置,其特征在于,所述阳极丝采用铂金材质制作而成,其中所述阳极丝相对于所述阴极导出垫片平行放置在所述电沉积槽槽体内腔中。
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