[实用新型]一种桶式外延炉基座旋转同心度监控装置有效
申请号: | 202021552729.7 | 申请日: | 2020-07-30 |
公开(公告)号: | CN212659531U | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 肖健;任凯;肖战武;黄健 | 申请(专利权)人: | 南京国盛电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 张弛 |
地址: | 210000 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 外延 基座 旋转 同心 监控 装置 | ||
1.一种桶式外延炉基座旋转同心度监控装置,包括桶式外延炉基座、安装在桶式外延炉基座底端的转轴、收容桶式外延炉基座的反应腔;其特征在于,还包括安装在反应腔外并自下而上延伸的导轨、沿着导轨上下移动的滑块、安装在滑块上并由滑块带动上下移动的距离传感器、与距离传感器电信号连接的控制器;
所述距离传感器用以测量桶式外延炉基座旋转时相对于距离传感器的距离数据;
控制器用以接收距离数据并通过其中的最大距离及最小距离获取桶式外延炉基座旋转的同心度。
2.根据权利要求1所述的桶式外延炉基座旋转同心度监控装置,其特征在于,所述反应腔面对距离传感器的侧面设有若干开孔,距离传感器移动至与一个开孔位置处,并通过该开孔测量外延炉基座旋转时相对于距离传感器的距离数据。
3.根据权利要求1或2所述的桶式外延炉基座旋转同心度监控装置,其特征在于,所述控制器控制滑块的上下移动。
4.根据权利要求3所述的桶式外延炉基座旋转同心度监控装置,其特征在于,所述桶式外延炉基座上装载有若干片硅片。
5.根据权利要求2所述的桶式外延炉基座旋转同心度监控装置,其特征在于,所述开孔一共有9个。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造