[实用新型]一种钯膜组件以及提纯器

权利要求书

1.一种钯膜组件，包括：

壳体，所述壳体设置有输入富氢混合气体的进气口、输出提纯氢气的出气口、排出尾气的排气口以及收容腔，所述收容腔与所述进气口、出气口、排气口相连通；以及

至少一个钯膜单元，所述钯膜单元收容于所述收容腔，包括钯膜以及与所述钯膜相对设置的扰流板，所述扰流板与所述钯膜相对的一侧阵列设置有若干凸台；所述钯膜与所述扰流板之间形成有进气通道，所述钯膜背离所述扰流板的一侧与相邻钯膜单元的扰流板或者所述收容腔的腔壁之间形成出气通道；所述进气通道的两端分别与所述进气口、排气口相连通，所述出气通道与所述出气口相连通；其特征在于：

所述凸台包括第一凸台以及第二凸台，所述第一凸台、第二凸台间隔设置，并且所述第一凸台的高度大于所述第二凸台的高度。

2.如权利要求1所述的钯膜组件，其特征在于：所述凸台的高度位于0.5毫米～3毫米之间。

3.如权利要求1所述的钯膜组件，其特征在于：所述凸台呈圆柱状。

4.如权利要求1所述的钯膜组件，其特征在于：所述钯膜与所述扰流板之间还设置有滤网，以过滤输入的富氢混合气体。

5.如权利要求4所述的钯膜组件，其特征在于：所述滤网为不锈钢滤网；所述滤网设置有若干滤孔；所述第一凸台位于相邻滤孔之间，所述第二凸台正对所述滤孔。

6.如权利要求4所述的钯膜组件，其特征在于：所述扰流板与所述滤网之间还设置有第一密封圈，所述第一密封圈设置有与所述进气口相连通的进气槽以及与所述排气口相连通的排气槽；所述进气通道是由所述扰流板、第一密封圈、钯膜共同形成。

7.如权利要求4所述的钯膜组件，其特征在于：所述滤网背离所述扰流板的一侧还设置有第二密封圈，所述第二密封圈设置有与所述出气口相连通的出气槽；所述出气通道是由所述钯膜、第二密封圈、相邻钯膜单元的扰流板或者所述收容腔的腔壁共同形成。

8.如权利要求1所述的钯膜组件，其特征在于：所述钯膜、扰流板呈管状，所述扰流板套在所述钯膜上。

9.一种提纯器，其特征在于，包括钯膜组件，所述钯膜组件包括

壳体，所述壳体设置有输入富氢混合气体的进气口、输出提纯氢气的出气口、排出尾气的排气口以及收容腔，所述收容腔与所述进气口、出气口、排气口相连通；以及

至少一个钯膜单元，所述钯膜单元收容于所述收容腔，包括钯膜以及与所述钯膜相对设置的扰流板，所述扰流板与所述钯膜相对的一侧阵列设置有若干凸台；所述钯膜与所述扰流板之间形成有进气通道，所述钯膜背离所述扰流板的一侧与相邻钯膜单元的扰流板或者所述收容腔的腔壁之间形成出气通道；所述进气通道的两端分别与所述进气口、排气口相连通，所述出气通道与所述出气口相连通；所述凸台包括第一凸台以及第二凸台，所述第一凸台、第二凸台间隔设置，并且所述第一凸台的高度大于所述第二凸台的高度。

10.如权利要求9所述的提纯器，其特征在于：所述凸台的高度位于0.5毫米～3毫米之间。