[实用新型]一种单晶炉隔离腔清理装置

权利要求书

1.一种单晶炉隔离腔清理装置，用于清理密封的隔离腔中的硅粉，其特征在于，包括：

可往复旋转地向所述隔离腔吹气的进气单元，以使附着于所述隔离腔内壁上的所述硅粉被吹掉并漂浮于所述隔离腔内；

和吸收被所述进气单元吹掉的所述硅粉并使所述硅粉被过滤收集的吸收单元；

其中，所述进气单元的位置高于所述吸收单元的位置；

所述进气单元的进气口横截面的面积小于所述吸收单元的排气口横截面的面积。

2.根据权利要求1所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述进气单元包括摇摆式喷头组件、进气管和气泵，其中，

所述喷头组件置于所述隔离腔内侧并与所述进气管连接设置；

所述气泵通过所述进气管向所述喷头组件供气以进入所述隔离腔内；

所述喷头组件远离所述进气管一端设有若干喷嘴；

所述喷头组件靠近所述进气管一端设有自动反转控制环，所述控制环带动所述喷嘴沿所述喷头组件轴向往复旋转。

3.根据权利要求2所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述喷嘴沿所述进气管轴线方向均朝远离所述进气管一侧倾斜向外延伸且均匀设置，所述喷嘴周缘设有若干喷孔，所述喷嘴倾斜角度为30-60℃。

4.根据权利要求3所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述喷嘴倾斜角度为45℃。

5.根据权利要求2-4任一项所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述喷头组件还包括倒锥形本体和置于所述本体内侧的倒锥形支撑台；

所述本体一端与所述控制环连接，另一端与所述喷嘴连通设置；

所述本体与所述支撑台的小端面均同侧且靠近所述控制环一侧设置；

所述本体与所述支撑台之间设有用于通气的气流通道。

6.根据权利要求5所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述本体与所述支撑台小径端之间设有球形堵头；所述支撑台中心设有弹簧，所述弹簧顶着所述球形堵头与所述本体小径端接触设置。

7.根据权利要求2-4、6任一项所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述吸收单元包括吸气管、真空泵、以及位于所述吸气管和所述真空泵之间的过滤组件，所述吸气管靠近所述隔离腔与单晶炉主炉连接处的阶梯面一侧设置，且所述吸气管直径大于所述进气管直径。

8.根据权利要求7所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述过滤组件包括支架、置于所述支架上端面的过滤罐，所述过滤罐两端分别与所述吸气管和所述真空泵连通；在所述过滤罐内侧设有用于隔离所述硅粉的过滤网，所述过滤网与所述过滤罐内壁相适配。

9.根据权利要求8所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述过滤网位于所述过滤罐靠近所述吸气管一端设置。

10.根据权利要求8或9所述的一种单晶炉隔离腔清理装置，其特征在于，所述进气管靠近所述隔离腔上端面一侧设置，所述吸气管靠近所述隔离腔下端面一侧设置。