[实用新型]高阶模滤除器有效

专利信息
申请号: 202021591143.1 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN212364642U 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 王泽锋;李宏业;王蒙;饶斌裕;田鑫;赵晓帆;胡琪浩;奚小明;陈子伦;潘志勇;王小林;许晓军;陈金宝 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02;H01S3/08
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 周达
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 高阶模滤
【权利要求书】:

1.高阶模滤除器,其特征在于:包括光纤,光纤的纤芯能够同时支持两个模式传输,即LP01模与LP11模;在光纤纤芯外侧的包层中设置有包层波导,所述包层波导具有一定长度,所述包层波导的长度方向与光纤的长度方向一致,纤芯和包层波导各自的倏逝场之间的能量交叠实现模式耦合。

2.根据权利要求1所述的高阶模滤除器,其特征在于:所述光纤为大芯径光纤,其纤芯直径为20μm。

3.根据权利要求1所述的高阶模滤除器,其特征在于:包层波导采用飞秒激光刻写而成。

4.根据权利要求1所述的高阶模滤除器,其特征在于:所述包层波导的半径设置为4μm。

5.根据权利要求1所述的高阶模滤除器,其特征在于:所述纤芯与包层波导间的间距在20μm以内。

6.根据权利要求1所述的高阶模滤除器,其特征在于:所述包层波导的折射率满足以下相位匹配条件:

其中为纤芯LP11模的传播常数,βwaveguide为包层波导基模的传播常数,其中包层波导基模的传播常数和包层波导基模的有效折射率之间的关系为:

其中,λ为激光波长,neff为包层波导基模的有效折射率。

7.根据权利要求1至6中任一权利要求所述的高阶模滤除器,其特征在于:所述光纤纤芯的x方向与y方向的外侧包层中均刻写有一定长度的包层波导,纤芯中的LP11a模与x方向的包层波导的基模耦合,纤芯中的LP11b模与y方向的包层波导的基模耦合。

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