[实用新型]一种适用于大尺寸触摸屏的导电膜

说明书

本实用新型公开了一种适用于大尺寸触摸屏的导电膜，包括PET基材层，所述PET基材层上方依次设置有非氧化单晶硅层、氮化硅层、SiO₂层和ITO层，所述PET基材层厚度设置为23um，所述非氧化单晶硅层厚度设置为0.9～1.2nm，所述氮化硅层厚度设置为15.9～17.5nm，所述SiO₂层厚度设置为22.8～23.9nm，所述ITO层厚度设置为129～140nm。本实用新型在镀膜前首先进行钛靶轰击，改变膜层表面微型面貌，增加膜层附着力，非氧化单晶硅的引入进一步活化了膜层，为后面溅射打下了坚实的基础，防止膜层过厚导致镀层脱落，科学控制气体在腔室内分布，膜层均匀化最优，成品应用在86寸大尺寸触摸屏上不会出现明显可感的延迟现象。

技术领域

本实用新型涉及导电触摸屏技术领域，具体为一种适用于大尺寸触摸屏的导电膜。

背景技术

目前面上常见的柔性导电膜多使用卷对卷真空磁控溅射技术，生产出的产品方阻大多在100Ω/口及以上，广泛应用于手机、平板等电子设备。其后端TP(Touch Panel)使用蚀刻后的导电膜用来捕捉触摸信号，应用在大尺寸触摸屏上时，由于方阻高、通道长，导致触摸信号从发出到接受的时间差较长，也就是触控延迟现象。高方阻导电膜制约了显示屏尺寸大小，低阻(100Ω/口及以下)导电膜由于其方阻低，反应时间短，灵敏度高，恰能解决触控延迟问题。目前大尺寸触摸屏正成为行业内新的趋势，可应用教室、商场、办公室、医院等场所，给人们的生产生活带来便捷。

针对高方阻导电膜应用在86寸等大尺寸触摸屏上出现触控延迟现象，我司自主研发的柔性低阻高透导电膜能很好的解决这一问题。目前也有同行生产出了低阻柔性导电膜，但在生产中，ITO层的厚度与其方阻成反比，即ITO层越厚方阻越低，ITO层越薄方阻越高，要想得到低阻导电膜就需要增加ITO层厚度，但ITO层厚度增加，导电膜就会变黄；行业内使用的PET基材大多为50-188um，较厚的基材将使大尺寸触摸屏变得更加笨重。目前低阻导电膜镀层厚度均超过100nm，镀膜过后将导致成品较脆，弯折容易发生镀层脱落。对于高方阻产品，ITO层较薄，腔室内气体分布对整体产品均匀性影响较小；针对低阻产品，镀层较厚，腔室内气体分布将会直接影响成品整体性能均匀性。

现有柔性导电膜多用于小尺寸触摸屏，应用在大尺寸触摸屏时由于通道过长，导致反应延迟。在人机交互迅猛发展的今天，触摸屏出现延迟是致命的。在未来，大尺寸触控显示上的人机交互势必成为趋势，这就对柔性导电膜的要求很高。目前市场上出现的大尺寸屏幕，例如交互电视，其尺寸过大，使用时可明显感受到延迟，并未受到广大消费者的青睐。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种适用于大尺寸触摸屏的导电膜，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种适用于大尺寸触摸屏的导电膜，包括PET基材层，所述PET基材层上方依次设置有非氧化单晶硅层、氮化硅层、SiO₂层和ITO层，所述PET基材层厚度设置为23um，所述非氧化单晶硅层厚度设置为0.9～1.2nm，所述氮化硅层厚度设置为15.9～17.5nm，所述SiO₂层厚度设置为22.8～23.9nm，所述ITO层厚度设置为129～140nm。

优选的，所述PET基材层远离非氧化单晶硅层一侧连接有OCA光学胶层，所述OCA光学胶层厚度设置为22nm。

优选的，所述非氧化单晶硅层厚度设置为1nm。

优选的，所述氮化硅层厚度设置为16.7nm。

优选的，所述SiO₂层厚度设置为23.3nm。

优选的，所述ITO层厚度设置为132nm。

优选的，所述氮化硅层为氮化物Si₃N₄。