[实用新型]一种可连续制备石墨烯膜的设备有效
申请号: | 202021593663.6 | 申请日: | 2020-08-04 |
公开(公告)号: | CN213446236U | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 史广洲 | 申请(专利权)人: | 苏州天煜新材料科技有限公司 |
主分类号: | C01B32/186 | 分类号: | C01B32/186 |
代理公司: | 东台金诚石专利代理事务所(特殊普通合伙) 32482 | 代理人: | 刘登科 |
地址: | 215000 江苏省苏州市吴中区木*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 连续 制备 石墨 设备 | ||
本实用新型提供一种可连续制备石墨烯膜的设备,包括反应炉,以及设置于反应炉上的进气管、排气管和加热炉,进气管和排气管分别设于反应炉上表面和下表面的中心位置;加热炉设于反应炉的下表面上;反应炉上还设有进料口、出料口和传送带,进料口和出料口分别设于反应炉的两个端面上;传送带穿设于反应炉内部,且传送带两端分别位于进料口和出料口处;加热炉内设有承载壳体、加热装置和升降装置,升降装置设于加热炉底部;承载壳体设于升降装置上,且承载壳体的顶端穿设于反应炉内;加热装置设于承载壳体内部。本实用新型连续不断的制备石墨烯膜,提高了制备石墨烯膜的效率。
技术领域
本实用新型涉及制备石墨烯技术领域,具体为一种可连续制备石墨烯膜的设备。
背景技术
石墨烯是一种由碳原子以SP2杂化轨道组成六角型呈蜂巢晶格的二维碳纳米材料。石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性,在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景,被认为是一种未来革命性的材料。英国曼彻斯特大学物理学家安德烈·盖姆和康斯坦丁·诺沃肖洛夫,用微机械剥离法成功从石墨中分离出石墨烯,因此共同获得2010年诺贝尔物理学奖。石墨烯常见的粉体生产的方法为机械剥离法、氧化还原法、SiC外延生长法,薄膜生产方法为化学气相沉积法(CVD)。
石墨烯膜是浙江大学高分子系高超教授团队制造出的一种新型材料,解决了宏观材料高导热和高柔性不能兼顾的世界性难题。
而采用化学气相沉积法制备的石墨烯,晶体结构相对完整,质量高,可用于透明电极、平板触摸屏等,应用前景广。化学气机沉积法原理是将一种或多种气态物质导入到一个反应腔内发生化学反应,生成一种新的材料沉积在衬底表面。但是目前采用化学气相沉积法制备石墨烯时,生成的石墨烯膜都较小,而且并不能连续制备石墨烯膜,导致石墨烯膜的生产效率低,从而也限制了石墨烯的应用。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷,提供一种可连续制备石墨烯膜的设备,以解决上述技术背景中无法连续制备石墨烯膜的缺点。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种可连续制备石墨烯膜的设备,包括反应炉,以及设置于反应炉上的进气管、排气管和加热炉,所述进气管和排气管分别设于反应炉上表面和下表面的中心位置;所述加热炉设于反应炉的下表面上,且加热炉位于远离排气管的位置;
所述反应炉上还设有进料口、出料口和传送带,所述进料口和所述出料口分别设于反应炉的两个端面上,且进料口和出料口分别位于两个端面的中心位置;所述传送带穿设于反应炉内部,且传送带两端分别位于进料口和出料口处;
所述加热炉内设有承载壳体、加热装置和升降装置,所述升降装置设于加热炉底部;所述承载壳体设于升降装置上,且承载壳体的顶端穿设于反应炉内;所述加热装置设于承载壳体内部,且加热装置与承载壳体固定连接。
优选地,所述进气管和排气管均穿设于反应炉内,且进气管的底部设有第一腔壁,且排气管的顶部设有第二腔壁;所述第一腔壁和所述第二腔壁内分别设有进气腔和排气腔。
优选地,所述第一腔壁和第二腔壁上均开设有等间距分布的散气孔。
优选地,所述排气管上设有阀门,且阀门位于排气管上靠近反应炉的位置。
优选地,所述传送带两端分别通过两块固定块与反应炉进行固定连接。
与现有技术相比,本实用新型提供了一种可连续制备石墨烯膜的设备,具备以下有益效果:
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