[实用新型]微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构

说明书

本实用新型涉及一种微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构，包括：连接的冷却罩和屏蔽罩，其中，所述冷却罩位于反应室的上方，用于对所述反应室进行风冷散热；所述屏蔽罩围设在所述反应室外部，以防止所述反应室内的电磁辐射泄漏。本实用新型的微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构，设置有用于对反应室进行风冷散热的冷却罩，以及防止反应室内的电磁辐射泄漏的屏蔽罩，在采用MPCVD法制备金刚石膜的过程中，可以避免由于反应室不能及时冷却以及反应室内的电磁辐射泄漏，而造成的成膜效果不理想的问题。

技术领域

本实用新型属于金刚石膜制备技术领域，具体涉及一种微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构。

背景技术

金刚石膜具有高硬度、低摩擦系数、高热导率、高透光性、宽禁带宽度、高电阻率、高击穿场强以及高载流子迁移率等一系列优异性能，是一种性能极为优越的多功能材料。正是由于在如此多的方面都有极佳的表现，因而金刚石膜是21世纪新材料领域中最吸引人瞩目的热点材料之一。

人工制备金刚石膜的方法有很多，比如热丝法、热阴极法、直流电弧等离子体喷射法等，在众多的方法中，微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法产生的等离子体密度高，同时，利用该方法沉积金刚石膜的过程可控性和洁净性好，因此，MPCVD法一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。微波等离子体化学气相沉积装置是利用微波能实现化学气相沉积的一种工艺装置，其原理是，微波在反应室内形成共振，形成强的电磁场中心区域，使反应气体电离，形成等离子体，然后在衬底表面上形成固态物质沉积。在采用微波等离子体化学气相沉积装置制备金刚石膜的过程中，不可避免的在反应室内会产生大量的热，而且反应室内的电磁辐射也会存在泄漏的问题，这些问题都会造成成膜效果不理想。

实用新型内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供了一种微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构。本实用新型要解决的技术问题通过以下技术方案实现：

本实用新型提供了一种微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构，包括：连接的冷却罩和屏蔽罩，其中，

所述冷却罩位于反应室的上方，用于对所述反应室进行风冷散热；

所述屏蔽罩围设在所述反应室外部，以防止所述反应室内的电磁辐射泄漏。

在本实用新型的一个实施例中，所述冷却罩包括均风板、引风道和风机，其中，

所述均风板设置在所述屏蔽罩上方；

所述引风道与所述均风板连接；

所述风机与所述引风道连接。

在本实用新型的一个实施例中，所述均风板上设置有若干通风孔。

在本实用新型的一个实施例中，所述冷却罩还包括连接管，所述风机通过所述连接管与所述引风道连接。

在本实用新型的一个实施例中，所述屏蔽罩上设置有若干均匀排列的通孔。

在本实用新型的一个实施例中，所述通孔的直径小于或等于需屏蔽电磁波波长的1/10。

在本实用新型的一个实施例中，所述反应室包括腔盖板和真空反应腔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

本实用新型的微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构，设置有用于对反应室进行风冷散热的冷却罩，以及防止反应室内的电磁辐射泄漏的屏蔽罩，在采用MPCVD法制备金刚石膜的过程中，可以避免由于反应室不能及时冷却以及反应室内的电磁辐射泄漏，而造成的成膜效果不理想的问题。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。